全部产品分类
1-PCX-2-E127 光学透镜

1-PCX-2-E127

立即咨询获取报价获取报价收藏 收藏 下载规格书 下载规格书
立陶宛
分类:光学透镜
厂家:ALTECHNA

更新时间:2024-06-05 17:31:14

型号: 1-PCX-2-E127

概述

Altechna的1-PCX-2-E127是一款光学透镜,波长范围632.8 nm,焦距60 mm,直径12.7 mm,边缘厚度(ET)2 mm.有关1-PCX-2-E127的更多详细信息,

参数

  • 透镜类型 / Lens Type : Plano-Convex Lenses
  • 波长范围 / Wavelength Range : 632.8 nm
  • 焦距 / Focal Length : 60 mm
  • 焦距公差 / Focal Length Tolerance : ±3 %
  • 直径 / Diameter : 12.7 mm
  • 基底/材料 / Substrate/Material : UV Grade Fused Silica
  • 表面质量 / Surface Quality : 40-20 scratch-dig

规格书

厂家介绍

Altechna是激光相关产品和解决方案的供应商。

相关产品

图片名称分类制造商参数描述
  • 光电查
    49-546-INK光学透镜Edmund Optics

    透镜类型: Double Concave Lenses波长范围: 600 to 1050 nm

    来自Edmund Optics的49-546-Ink是一种光学透镜,其波长范围为600至1050nm,焦距为-12mm,中心厚度为3mm,直径为12mm,半径为-19.47mm.有关49-546-INK的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    62-566光学透镜Edmund Optics

    透镜类型: Plano-Convex Lenses波长范围: 425 to 675 nm

    Edmund Optics的62-566是一款光学透镜,波长范围为425至675 nm,焦距为38.1 mm,中心厚度为3 mm,直径为12.7 mm,半径为19.69 mm.有关62-566的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    67-467-INK光学透镜Edmund Optics

    透镜类型: Plano-Convex Lenses波长范围: 750 to 1550 nm

    来自Edmund Optics的67-467-Ink是一种光学透镜,其波长范围为750至1550nm,焦距为29.14至30mm,中心厚度为1.3mm,直径为6mm,半径为15.5mm.有关67-467-INK的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    89-613光学透镜Edmund Optics

    透镜类型: Aspheric Lenses波长范围: 3000 to 12000 nm

    来自Edmund Optics的89-613是波长范围为3000至12000nm、焦距为50mm、中心厚度为3mm、直径为25mm的光学透镜。有关89-613的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    CLSQ-1010-20N光学透镜Laser 2000 (UK) Ltd.

    透镜类型: Plano-Concave Lenses波长范围: 546.1 nm

    来自Laser 2000(UK)Ltd.的CLSQ-1010-20N是波长范围为546.1nm、焦距为-2cm(-20mm)、中心厚度为1.5mm、半径为9.2mm、边缘厚度(ET)为3mm的光学透镜。有关CLSQ-1010-20N的更多详细信息,请参阅下文。

相关文章

  • 准分子激光器的输出耦合器

    LASER COMPONENTS 生产部分反射涂层,用于激光系统中的输出耦合器或分束器。高功率电介质涂层的波长范围为 248 纳米至 3000 纳米。

  • 什么是朗伯余弦定律(Lambert's Cosine Law)?

    朗伯余弦定律指出,来自理想的漫反射表面的辐射强度与入射光线方向和表面法线之间的角度θ的余弦成正比。

  • 新技术可加速开发声学透镜、抗冲击薄膜和其他未来材料

    超材料是工程奇迹的产物。它们由日常的聚合物、陶瓷和金属制成。当这些普通材料在微观尺度上被精确地构造成错综复杂的结构时,它们就会具有非凡的特性。 在计算机模拟的帮助下,工程师们可以任意组合微观结构,观察某些材料如何转变,例如,变成声音聚焦的声学透镜或轻质防弹薄膜。

  • 新方法最大限度地减少了微透镜阵列生产中的对准误差

    双面微透镜阵列(DSMLAs)在提高光学器件性能方面发挥着至关重要的作用,支持从先进成像系统到激光束均匀化的应用。然而,传统的制造方法经常与校准误差作斗争,这会降低这些阵列的功能和效率。