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Exicor HD重型双折射测量系统
延迟范围: 0.005至300+nm 延迟分辨率/重复性: 0.001nm/±0.015nm或<0.8%（RET>1nm） 角分辨率/重复性: 0.01°±0.07° 测量速率/时间: 15samples/sec（1nm间距） 光源波长: 633nmExicor HD是一款重型双折射测量系统，基于Hinds Instruments的核心低级双折射测量技术和精密自动化运动控制元件，专为半导体晶圆和光掩模的检测和测试而设计。
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Exicor双折射测量系统光学测量设备
延迟范围: 0.005至100+ 延迟范围: 0.005至300+ 延迟范围: 0.005至300+ (红色), 0.005至250+ (绿色), 0.005至200+ (蓝色) 分辨率/重复性: 0.001/±0.008 分辨率/重复性: 0.001/±0.015Exicor双折射测量系统是一种高灵敏度、非机械的光学测量设备，专为测量光学材料的双折射特性而设计。
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Exicor PV-Si高精度仪器
延迟范围: 0至775 分辨率/重复性: 0.1至2nm@0至10nm, 1% thereafter 快轴角度分辨率: 0.01°@>10nm 测量速率/时间: 最高100fps 光斑大小: ~2mm typicalExicor PV-Si是一款用于测量硅晶体双折射的高精度仪器，能够检测硅锭在切割成晶圆之前的应力分布，帮助提高硅晶体质量并降低机械损耗。
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Exicor OIA双折射测量系统
可见光双折射测量范围: 0至300nm 深紫外双折射测量范围: 0至90nm 可见光双折射分辨率和重复性: 0.001nm±0.03nm(最高至3nm，1%之后) 深紫外双折射分辨率和重复性: 0.001nm±0.08nm(最高至4nm，2%之后) 双折射精度: 优于±0.2nmExicor OIA是用于评估透镜、平行面光学元件和曲面光学元件的双折射测量系统，支持正常和斜入射角度。该系统基于Hinds Instruments的获奖Photoelastic Modulator (PEM)技术，提供先进的光学双折射分析能力。
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Excicor OIA, # C-020-11, OD高精度光学测量设备
系统重量: 3035lbs [1375kg] 尺寸: 108in x 84in x 73in [2738mm x 2122mm x 1866mm]Excicor OIA是一款高精度光学测量设备，专为光学元件的质量控制和分析设计。
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Exicor GEN系列高精度设备
延迟范围: 0.005nm至300nm 延迟范围: 0.005nm至300nm 延迟范围: 0.005nm至300nm 决议: 0.001nm 重复性: ±0.01nm (Retardation <1nm) 或 ±1% (Retardation >1nm)Exicor GEN系列是一款用于超低双折射测量的高精度设备，具有卓越的灵敏度和可靠性，适用于多种光学材料的质量控制和测量。
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EXICOR GEN6-TW高灵敏度仪器
系统占地面积: 214cm x 281cm 服务访问占地面积: 335cm x 400cm 控制台占地面积: 53cm x 62cm 样品台尺寸: 210cm x 190cm 测量孔尺寸: Circular, 12mm diameterEXICOR GEN6-TW是一款用于测量平面光学材料的双折射、厚度和翘曲的高灵敏度仪器，适用于LCD和其他玻璃材料的分析。
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带倾斜功能的Exicor Gen6高精度光学测量设备
系统重量: 680kg (1500lbs) 样品尺寸: 1550x1910mm 样品高度: 873mm 倾斜角度: 65° 系统尺寸: 2705x2354x1728mmExicor Gen6是一款高精度光学测量设备，配备可倾斜功能，适用于大尺寸样品的偏振特性测量。
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Enviro Geni LCD-CO光电设备
样品尺寸: 1100mm×1300mm 设备尺寸: 2.2m×2m×1.7m 样品高度: 0.8m 控制系统尺寸: 0.5m×0.5m 倾斜加载角度: 65°一款用于大尺寸样品测试的光电设备，支持多种加载方式，适用于多种工业和实验室应用。
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GEMS 5液晶屏高精度光学测量系统
系统重量: 545kg (1200 lbs) 最大样品尺寸: 1400mm x 1500mm 系统尺寸: 2206mm x 1702mm x 2215mm专为大样本量设计的高精度光学测量系统。
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Exicor 193DUV双折射系统
可选波长: 157nm, 193nm, 248nm 延迟范围: 0.05至70+nm (157nm), 0.05至90+nm (193nm), 0.05至120+nm (248nm) 延迟分辨率/重复性: 0.01nm / ±0.08nm 角分辨率/重复性: 0.01° / ±0.5° 氮气需求: 157nm测量需要Exicor 193DUV系统用于测量深紫外波长下的双折射，适用于193nm光刻系统中的各种材料，尤其是浸没式193nm光刻系统。
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Exicor DUV 193-300光学测量设备
总体尺寸: 1579mm x 1935mm x 1400mm UV光源模块: 包含 UV检测模块: 包含 XY工作台: 支持 排气口: 支持Exicor DUV 193-300是一款用于深紫外光（DUV）波段的光学测量设备，专为高精度光学元件的检测和分析而设计。
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EXICOR DUV193-150高精度光学测量设备
Mass: 200lb (91kg) 尺寸: 605mm x 756mm x 1253mm 电源输入: 支持 排气口: 支持 灯使用时间: 支持EXICOR DUV193-150是一款用于深紫外光谱分析的高精度光学测量设备，适用于工业和科研领域的光学元件检测。
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Exicor 2000HD光学测量设备
最大样品尺寸: 2000mm×2000mm×500mm 最大负载（样品+夹具）: 11750lbs/5400kg 尺寸: 3162mm×2790mm×2050mm 最大龙门后退距离: 2579mmExicor 2000HD是一款高精度的光学测量设备，专为大尺寸样品的偏振特性测量而设计，支持高负载样品操作。
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Exicor 1500HD光学测量设备
最大样品尺寸: 1500mm×1500mm×500mm 最大负载（样品+夹具）: 6600lbs/3000kg 尺寸: 104.8in×93.2in×80.7in (2662mm×2386mm×2050mm) 龙门最大后退位置: 81.9in/2081mmExicor 1500HD是一款高精度的光学测量设备，专为大尺寸样品的偏振特性测量而设计，支持高负载和大样品尺寸。
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Exicor 1000HD高精度光学测量设备
最大样品尺寸: 1000mm×1000mm×500mm 最大负载[N]: 2910lbs/1320kg 尺寸: 2014mm×1865mm×2050mm 最大龙门后退距离: 1349mmExicor 1000HD是一款高精度光学测量设备，专为大尺寸样品的偏振测量而设计，适用于光学元件和材料的质量控制与研发。
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Exicor 800HD高精度光学测量设备
最大样品尺寸: 800mm×800mm×500mm 最大负载（样品+夹具）: 1910lbs/865kg 尺寸: 71.4in×65.5in×81in (1814mm×1663mm×2050mm) 龙门最大后退位置: 4.3in/110mmExicor 800HD是一款高精度光学测量设备，专为大尺寸样品的偏振特性测量而设计，支持高负载和多种样品尺寸。
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Exicor 600HD高精度光学测量设备
最大样品尺寸: 600mm×600mm×500mm 最大负载（样品+夹具）: 1100lbs/500kg 尺寸: 2050mm×1465mm×1614mm 最大龙门后退距离: 1031mmExicor 600HD是一款高精度光学测量设备，专为大尺寸样品的偏振特性测量而设计，支持高负载和多种样品尺寸。
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Exicor 500ATi光学测量设备
总体尺寸: 1500mm x 1567mm x 1679mm 符合标准: RoHSExicor 500ATi是一款高精度的光学测量设备，专为测量光学元件的双折射特性而设计。
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Exicor 400HD高精度光学测量设备
最大样品尺寸: 400mm×400mm×400mm 最大负载（样品+夹具）: 450lbs/205kg 尺寸: 1265mm×1414mm×2050mm 最大龙门后退距离: 831mmExicor 400HD是一款高精度光学测量设备，专为测量光学材料的双折射特性而设计，适用于大尺寸样品的测量。