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  • 用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统 材料类生产设备
    德国
    厂商:AIXTRON SE
    基底尺寸: 203.2 - 152.4 mm 工艺类型: Pulsed Laser Deposition (PLD)

    AIX 2800G4-TM,用于基于GaAs/InP的光电子学和P-HEMT/HBT器件。

  • 来自Janis和SHI RP-062B的两级脉冲管低温冷却器 材料类生产设备
    最低温度: 3.0K 冷却时间: 100-90min

    Shi Cryogenics集团很高兴地宣布其产品线中较高容量为0.5W的4.2K脉冲管。SRP-062B改进了SRP-062A的设计,并提供超低振动,这得益于其独特的制冷概念,即冷头内无移动部件。SRP-062B采用同心设计,加上一个可轻松更换的远程阀门单元,即使在低温下使用冷头。SRP-062B由新型高效F-50压缩机驱动。与所有Freedom系列压缩机一样,F-50为脉冲管提供精炼的石油和天然气管理,并提供独特的30,000小时服务间隔。

  • 来自Janis和SHI RP-082B的两级脉冲管低温冷却器 材料类生产设备
    最低温度: 3.0K 冷却时间: 80min

    住友重工(Sumitomo Heavy Industries)再次扩大了其产品线,增加了两级脉冲管冷却器。这款新产品的基础温度低于3.0K,扩展了住友闭式循环冰箱的可能应用范围,包括低温、低振动应用。脉冲管制冷机没有内部移动部件,因此它具有固有的低振动水平。