光电查为您提供38241个产品。下载资料，获取报价，实现功能、价格及供应的优化选择。
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MM2500 C LASERCUT™ FS紧凑型工业精密激光微加工平台
激光功率: 5-20 激光波长: 1030/515/343 激光脉冲持续时间: <400 激光重复频率: Single shot to MHz 切割床尺寸: 250x250一款紧凑型工业精密激光微加工平台，设计用于适应多种激光类型和材料处理选项。
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微加工刀具-MM2500 C LASERCUT™
激光功率: 2-100 激光波长: 1060/530/355 激光脉冲持续时间: 1-1,000 激光重复频率: 1-10,000 切割床尺寸: 300x300紧凑型工业精密激光微加工平台，设计用于适应一系列激光类型和材料处理选项。它是一款完全集成的独立激光工具，适用于精密激光加工和微加工应用，兼容一系列激光类型和光束传输选项。
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微加工工具- MM2500紧凑型工业精密激光微加工平台
电源供应: 20A, 220V±10%, single phase 抽取系统: HEPA filtered 尺寸: 1600x850x950 重量: 350 通讯方式: PC remote control via internet一款紧凑型工业精密激光微加工平台，适用于多种激光类型和材料处理选项。MM2500是一种完全集成的独立激光工具，可用于从研发到大规模24/7制造的各种精密激光加工和微加工应用。
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LASERDRILL™ - MM2500 D紧凑型工业级精密激光微加工平台
激光功率: 20-100 激光波长: 1060/530 激光脉冲持续时间: 11-1000 激光重复频率: 1-1000 工作区域尺寸: 80x100x150x250LASERDRILL™ - MM2500 D是一款紧凑型工业级精密激光微加工平台，设计用于支持多种激光类型和材料处理选项，适用于从研发到全天候大规模制造的各种精密激光加工和微加工应用。
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LaserStrip™高性能激光剥离设备
视觉选项: Integrated viewing camera 窗口剥离长度范围: 1-50mm 端部剥离长度范围: 1-15mm 剥离长度公差: ±0.2mm 肩部过渡: <500μmLaserStrip™ 是一款用于光纤组件生产的高性能激光剥离设备，采用非接触式工艺，专为提高生产效率和可靠性而设计。
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LaserCleave™ -3500光纤激光切割工具
电源: 20A, 220V±10%, single phase 碎片容量: Integrated collection of >1 fiber shards 尺寸: 1400x800x1200 重量: 350 通讯方式: PC remote control via internetLaserCleave™-3500是一款独立集成的光纤激光切割工具，专为OE连接器、AOC、Si光子学、PIC等需要光学级切割的技术而设计。
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LaserCleave™ - 1500 MXC多光纤光缆准备工具
端面角度: Typically<2 端面曲率半径: Typically>200 光纤膨胀/蘑菇形状: <2 increase in end diameter 共面度: <20 Maximum deviation 电源: Single phase, 1.7kVALaserCleave™ - 1500 MXC是一款用于PRIZM® MT端接的多光纤光缆准备工具，专为光纤带的生产准备而设计，具有灵活性和易操作性。
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LaserCleave™ - 1500 LT光纤制备工具
端面角度: Typically<2 端面曲率半径: Typically>200 光纤膨胀/蘑菇形状: <2 increase in end diameter 共面度: <20 Maximum deviation 电源供应: Single phase, 1.7LaserCleave™ - 1500 LT是一款用于PRIZM® LightTurn®连接器生产的光纤制备工具，专为光纤带和光纤端面的高精度制备而设计，具有灵活性和易操作性。
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LASERCLEAVE™ - 1500桌面光纤加工工具
电源: Single Phase, 1.7KVA 冷却方式: Air cooled; Water cooling option 视觉选项: Integrated viewing cameras 碎片容量: Capacity collection>1M fiber shards 尺寸(宽x深x高): 756x505x245mmLASERCLEAVE™ - 1500是一款用于光纤互连生产的桌面型光纤加工工具，专为现有和新一代光学互连器件的生产而设计，旨在提高性能、增加产量并降低制造成本。
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LaserCleave™ - 500桌面光纤加工工具
电源: 单相，0.5kVA 冷却方式: 空气冷却 视觉选项: 可选摄像头 碎片容量: 容量收集>1M光纤碎片 尺寸(宽x深x高): 190x500x145mmLaserCleave™生产工具基于自1990年代中期以来用于光纤组件性能关键、大批量生产的技术。LaserCleave™ - 500是一款桌面光纤加工工具，专为光学互连生产设计，具有紧凑性和高效生产能力。
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Norland Opticure UV/VIS扫描杆可见光固化系统
能量输出: 最高1.8W/cm²@365nm-420nm 输入功率: 锂离子电池(3.7V/2500mAh) LED寿命: 2000小时 尺寸: 38mm×190mm(8mm直径尖端) 重量: 180gNorland Opticure UV/VIS Wand是一种创新的UV和可见光固化系统，采用强大的光发射二极管作为光源，便携且由可充电锂电池供电，适用于多种光固化应用。
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Opticure LED UV Cube III 365/405nm可切换LED UV固化设备
尺寸: 宽362mm，高455mm，深342mm 固化体积: 宽298mm，高298mm，深335mm 重量/材料: 22kg，外壳材质为钢，颜色为银色 波长: 365nm和405nm UVA强度@365/405nm: 365nm: 18–70mW/cm²，405nm: 17–58mW/cm² @100mm；365nm: 17–31mW/cm²，405nm: 17–31mW/cm² @200mm；365nm: 20–27mW/cm²，405nm: 15–21mW/cm² @280mmOpticure LED UV Cube III是一款高性能的LED UV固化设备，支持365nm和405nm波长切换，适用于多种工业固化应用。
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多极LED紫外线固化系统
UV输出: 2.5W/cm² @ 365nm/pole 输入功率: 110-120V 50/60Hz, 220-240V 50/60Hz LED寿命: 20000 hours 控制: Digital UV设定点: 5%-100%多极LED紫外线固化系统在每一极发出一致和可重复的2.5W/cm² @365nm。与传统灯技术不同，它消除了灯或光导退化和紫外线强度变化。适用于自动化生产，可通过脚踏开关或PLC控制计算机信号。由于没有液体光导和替换灯，该系统提供了低拥有成本。
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先锋180 MAPLE PLD系统
PLD腔室尺寸: 12"/18"直径（Pioneer 120-Advanced/Pioneer 180型号） 基础真空: 5×10^-7Torr，泵软件控制 适用基板尺寸: 2"最大直径和/或多个1cm×1cm样品 基片加热: 500°C最大值，可编程加热器 基底旋转: 20RPM，软件控制Pioneer 180 MAPLE PLD System是一款专为有机和聚合物薄膜沉积设计的独立型MAPLE PLD系统，支持多种沉积源和集成分析系统。
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Pioneer 120脉冲激光沉积系统
腔室泵送端口尺寸: 8英寸CF 基板加热端口尺寸: 8英寸CF 靶材旋转端口尺寸: 8英寸CF 观察窗口尺寸: 8英寸CF 激光端口尺寸: 4.5英寸CF或6.75英寸CFPioneer 120是一款独立的交钥匙脉冲激光沉积（PLD）系统，专为沉积外延薄膜、多层异质结构/超晶格和纳米级薄膜而设计，支持氧化物薄膜的外延沉积。
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先锋120先进脉冲激光沉积系统
沉积腔室直径: 12英寸 UV级硅激光端口: 4.5英寸 RHEED枪端口: 4.5英寸 RHEED屏幕端口: 6英寸 泵端口: 6英寸Pioneer 120是一款先进的脉冲激光沉积系统，专为沉积外延薄膜、多层异质结构和超晶格设计，支持纳米级薄膜沉积和氧化物薄膜沉积。
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先锋180激光MBE/PLD系统
PLD腔室尺寸: 12"/18"直径（Pioneer 120-Advanced/Pioneer 180型号） 真空度: 5×10^-9Torr 适用基板尺寸: 1cm×1cm（激光加热器）/2"直径（辐射加热器） 基片加热: 1000°C（激光加热器）/850°C（辐射加热器） 靶材转盘: 6×1"或3×2"直径Pioneer 180是一款集成了激光分子束外延（MBE）和脉冲激光沉积（PLD）功能的系统，支持高质量外延薄膜的沉积和原子级别的薄膜生长控制。
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大面积脉冲激光沉积系统
晶圆尺寸: 4英寸(100mm), 6英寸(150mm), 8英寸(200mm) 样品室尺寸: 18英寸球形或圆柱形 基础真空: 5×10^-7Torr标准, 5×10^-9Torr升级 基板加热温度: 850°C(4英寸晶圆), 750°C(6英寸晶圆), 700°C(8英寸晶圆) 靶材转盘尺寸: 4×2英寸Neocera的大型脉冲激光沉积系统用于在各种基板上沉积高质量薄膜，支持最大直径为8英寸（200mm）的晶圆。该系统结合基板旋转和激光束扫描技术，确保整个晶圆区域的厚度均匀性。
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先锋180离子辅助PLD系统
适用基板尺寸: 2"直径标准（可选4"和6"） 样品室尺寸: 12"和18"直径 基础真空: 5×10^-7Torr标准，5×10^-9Torr可升级 基片加热: 1000°C（激光加热），950°C（导热加热），850°C（辐射加热） 靶材转盘: 6×1"直径或3×2"直径Pioneer 180离子辅助脉冲激光沉积系统用于在非晶或多晶基板上创建双轴织构模板（薄膜），通过优化PLD沉积速率和离子束速率实现高质量薄膜沉积。
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组合脉冲激光沉积系统
基板尺寸: 2" 标准，4" 和 6" 可选 PLD腔室尺寸: 12" 或 18" 直径球形腔室 基础真空: 5×10^-7 Torr（标准），5×10^-9 Torr（升级） 基片加热: 850°C（2" 和 4" 基片），750°C（6" 基片） 靶材转盘: 6×1" 直径Combinatorial Pulsed Laser Deposition (PLD) 系统是一种独立的交钥匙解决方案，能够实现二元、三元和四元相图的连续成分分布沉积。该系统无需后退火和掩膜，支持在高温和高真空条件下进行薄膜生长，适用于外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。