全部产品分类
ZGP非线性晶体 晶体

ZGP非线性晶体

立即咨询获取报价获取报价收藏 收藏 下载规格书 下载规格书
分类:晶体

更新时间:2024-04-19 14:40:59

型号:

ZGP非线性晶体概述

ZnGeP2(磷化锗锌)晶体具有许多优良的性能,是一种中红外非线性晶体。ZnGeP2(ZGP)晶体的非线性极化率(d36~75 pm/V)约为KDP的160倍,在0.74~12 mm范围内具有良好的光学透明性和较高的激光损伤阈值,非常适合于制作近红外可调谐激光器。ZGP是一种非常有希望用于中红外器件如SHG、SFG、OPO和OPG/OPA的材料。

ZGP非线性晶体参数

  • 水晶类型 / Crystal Type: : ZnGeP2 (ZGP)
  • 相位测量类型 / Phase Mathcing Type: : Not Applicable
  • 安装 / Mounting: : Unmounted
  • 宽度 / Width: : 7mm
  • 高度 / Height: : 5mm
  • 长度 / Length: : 15mm
  • 平整度 / Flatness: : <= Lambda/10
  • 表面质量 / Surface Quality (Scratch-Dig): : 20-10
  • AR 涂层 / AR Coating: : One side

ZGP非线性晶体图片集

ZGP非线性晶体图1
ZGP非线性晶体图2
ZGP非线性晶体图3
ZGP非线性晶体图4
ZGP非线性晶体图5

ZGP非线性晶体规格书

相关内容

相关产品

图片名称分类制造商参数描述
  • 光电查
    BBO Crystal by OptoCity晶体OptoCity

    BBO(β-Ba2BO4,β-硼酸钡)晶体是应用较广泛的非线性晶体之一。BBO晶体结合了-宽透明波长范围(189-3500nm)-宽相位匹配SHG波长范围(409.6-3500nm)-有效非线性系数大-高损伤阈值-高光学均匀性-良好的机械和物理性能。

  • 光电查
    Ce:GAGG Crystal晶体Anhui Crystro Crystal Material

    铈掺杂的多组分钆铝镓石榴石晶体,称为Ce:GaGG,化学式为Ce:Gd3Al2Ga3O12,属于较重要的发现,其提供了优异的闪烁性能,并在较近十年进入了闪烁体市场。有效原子序数为54.4,发射光谱峰值波长为520nm。Ce:GAGG晶体除了具有高光产额、良好的能量分辨率、高的有效原子序数、快的闪烁响应外,化学稳定性、坚固性和大晶体生长能力也是非常重要的性质。Ce:GAGG晶体对γ量子的线性响应表明,Ce:GAGG晶体在X射线成像、X射线计算机断层扫描(CT)、正电子发射断层扫描(PET)等医学成像技术中具有良好的应用前景。单晶闪烁体经常用于扫描电子显微镜(SEM)。

  • 光电查
    Ce:LUAG Crystal晶体Anhui Crystro Crystal Material

    产地:中国合肥(本土)品牌名称:Crystro型号:CE:LUAG晶体发射峰(nm):510衰减时间(ns):80能量分辨率:8%硬度:8.5结构:IA3D对称:立方熔化(℃):1970℃属性:CE:LUAG化学成分:Lu3Al5O12厚度:±0.05毫米

  • 光电查
    EKSMA Infrared nonlinear crystals ZGP - 402晶体Altos Photonics, Inc.

    ZnGeP2(ZGP)晶体具有0.74和12μm的透射带边。然而,它的有效透射范围为1.9-8.6μm和9.6-10.2μm。ZGP晶体具有较大的非线性光学系数和较高的激光损伤阈值。

  • 光电查
    Infrared Nonlinear Crystal - CdSe晶体DIEN TECH

    使用CdSe晶体的激光系统具有明显的优势——更宽的调谐范围。在CdSe参量振荡器输出的差分混频中,获得相位匹配的9.4-24.3µm调谐范围。CdSe晶体在近红外区具有带边,在远红外区具有透射性。由晶格吸收1.5 cm-1@24.3µm确定的长波长极限。还存在以18.5μm为中心的窄杂质吸收,其从一个晶体到另一个晶体变化。CdSe晶体作为一种非线性光学材料,早在20世纪70年代就被用于OPG、OPO和DFG的研究中,首先在10~20μm范围内实现了皮秒量级的可调谐输出,然后在OPG和OPO的基础上分别在8~13μm和7~12μm范围内实现了兆瓦级的峰值功率输出。

相关文章

  • 旧晶体,新故事,提高深紫外激光性能

    传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。