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HERCULES光刻机轨道系统 光学类生产设备

HERCULES光刻机轨道系统

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奥地利
厂家:EV Group (EVG)

更新时间:2024-04-19 14:40:59

型号:

概述

基于模块化平台,Hercules将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的晶片清洗、抗蚀剂涂层、烘焙和抗蚀剂开发模块相结合。Hercules能够实现各种晶圆尺寸的盒式到盒式处理。Hercules可以安全地处理厚的、高度弯曲的、矩形的、小直径的晶片,甚至是器件托盘。精确的顶侧和底侧对准以及亚微米到超厚(高达300微米)抗蚀剂的涂覆可以应用于夹层和钝化应用。卓越的对准平台设计以高通量实现了高度精确的对准和曝光结果。

参数

  • 印刷技术 / Printing Technology: : Grayscale Lithography
  • 最小 XY 特征尺寸 / Min XY Feature Size: : 500nm
  • 最小垂直步长 / Min Vertical Step: : 1000nm
  • 最小表面粗糙度 / Min Surface Roughness: : 2000nm

规格书

厂家介绍

EV集团(EVG)是半导体、MEMS、复合半导体、功率器件和纳米技术器件制造的大批量生产设备和工艺解决方案的领先供应商。 EVG是先进封装和纳米技术的晶片级键合和光刻技术领域公认的市场和技术#做的较好的#,其主要产品包括晶片键合、薄晶片加工和光刻/纳米压印光刻(NIL)设备、光刻胶涂布机以及清洁和检查/计量系统。 凭借位于奥地利、北美和亚洲的总部较先进的应用实验室和洁净室,EVG专注于为其全球研发和生产客户及合作伙伴提供卓越的工艺专业知识,从较初的开发到客户现场的较终集成。 EVG成立于1980年,为全球客户和合作伙伴提供服务和支持,在全球拥有1100多名员工,在美国、日本、韩国、中国拥有全资子公司。

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