ATLEX 1000 L

波长: 527nm

用于视网膜再生的5.7nm二极管泵浦SSL。该设备产生1.7微秒的短激光脉冲，高达1mJ。使用微秒脉冲，只有目标细胞被破坏，而不是组织，因此，新的细胞生长附着在视网膜上，并将视觉恢复到那个点。当使用较长的脉冲时，可以暴露具有不自主眼球运动的脱离视网膜的中心区域。使用微秒脉冲，不自主眼球运动导致损伤的概率降低了10.000倍。

波长: 458, 514 nm

国家激光公司的600AM是一种波长为458，514 nm，功率为200 MW，输出功率（CW）为200 MW，工作温度为4至40摄氏度，存储温度为-30至60摄氏度的激光器。600AM的更多详细信息可在下面查看。

波长: 472.58 nm

LaserGlow Technologies的R470003FX是一款波长为472.58 nm、功率为5 MW、输出功率（CW）为5 MW、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为-10至50摄氏度的激光器。有关R470003FX的更多详细信息，请参见下文。

波长: 632.8 nm

来自Lumentum Operations LLC的1144_P是波长为632.8nm、功率为15mW、输出功率（CW）为0.5mW、工作温度为-40至70摄氏度的激光器。1144_P的更多细节可以在下面看到。

波长: 193 nm

氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。