加州理工学院信息科学与技术和应用物理学泰德和金格-詹金斯教授兼应用物理学和材料科学执行官瓦哈拉,与他的研究小组成员和加州大学圣塔芭芭拉分校的约翰-鲍尔斯小组成员一起,在一种名为超低损耗氮化硅(ULL nitride)的重要新材料(一种由硅和氮组成的化合物)中形成短脉冲的方式上取得了突破性进展。这种氮化硅的纯度极高,并以薄膜形式沉积。
概述
来自EKSPLA的NL742是波长为355至1064nm、脉冲能量为30至100mJ、工作温度为18至25℃的激光器。NL742的更多细节可以在下面看到。
参数
- 类型 / Type : Laser System
- 工作模式 / Operation Mode : Pulsed Laser
- 超快激光 / Ultrafast Laser : Nanosecond Lasers
- 波长 / Wavelength : 355 to 1064 nm
- 可调谐 / Tunable : Yes
- 模式 / Mode : Single Mode
- 脉冲能量 / Pulse Energy : 30 to 100 mJ
- 偏振比 / Polarization ratio : > 98 %
- 应用行业 / Application Industry : LIDAR & Sensing, Imaging, Industrial (Material Processing)
- 激光头尺寸 / Laser Head Dimension : 600 × 1200 × 330 mm
图片集
规格书
厂家介绍
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