加州理工学院信息科学与技术和应用物理学泰德和金格-詹金斯教授兼应用物理学和材料科学执行官瓦哈拉,与他的研究小组成员和加州大学圣塔芭芭拉分校的约翰-鲍尔斯小组成员一起,在一种名为超低损耗氮化硅(ULL nitride)的重要新材料(一种由硅和氮组成的化合物)中形成短脉冲的方式上取得了突破性进展。这种氮化硅的纯度极高,并以薄膜形式沉积。
M808±3-16-F200-22-T4S
更新时间:2023-08-31 15:26:29
M808±3-16-F200-22-T4S概述
来自Photontec Berlin的M808±3-16-F200-22-T4S是一款波长为808 nm、功率为16 W、输出功率(CW)为16 W、工作温度为10至30摄氏度、存储温度为-20至80摄氏度的激光器。有关M808±3-16-F200-22-T4S的更多详细信息,
M808±3-16-F200-22-T4S参数
- 类型 / Type : Laser Module
- 技术 / Technology : DPSS Laser
- 工作模式 / Operation Mode : CW Laser
- 波长 / Wavelength : 808 nm
- 可调谐 / Tunable : No
- 激光颜色 / Laser Color : Infrared
- 功率 / Power : 16 W
- 应用行业 / Application Industry : Scientific, Test & Measurement / Instrumentation, Industrial (Material Processing)
- 波长精度 / Wavelength Accuracy : ± 3 nm
M808±3-16-F200-22-T4S规格书
M808±3-16-F200-22-T4S厂家介绍
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