全部产品分类
LED12W开关模式LED驱动器 发光二极管

LED12W开关模式LED驱动器

立即咨询获取报价获取报价收藏 收藏 下载规格书 下载规格书

更新时间:2024-04-19 14:40:59

型号:

LED12W开关模式LED驱动器概述

12W固定输出LED驱动器。恒流和恒压型号。包括输出隔离。

LED12W开关模式LED驱动器参数

  • 频率范围 / Frequency Range: : 0.05 - 0.06 KHz

LED12W开关模式LED驱动器图片集

LED12W开关模式LED驱动器图1

LED12W开关模式LED驱动器规格书

LED12W开关模式LED驱动器厂家介绍

Hubbell Lighting Components在19世纪末开始了它的旅程,当时它的创始人哈维·哈贝尔开发了工具和设备,以满足工业革命期间对新型装配和制造机械日益增长的需求。电力的商业可用性和灯泡的出现为哈贝尔创造了更多的机会。凭借“拉链灯座”和“可分离插头和插座”的早期专利,哈贝尔进入了一个创新时代,发明了新的方法来服务于不断增长的企业、制造商、公用事业公司和业主客户群。

相关内容

相关产品

图片名称分类制造商参数描述
  • 光电查
    CXB1304-0000- 000F0UB235发光二极管Cree LED

    Cree LED的CXB1304-0000-000F0UB235是一款正向电压为18至19 V、正向电流为200 mA、光通量为380-420 LM、反向电流为0.1 mA的LED.有关CXB1304-0000-000F0UB235的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    LXA7-PW50发光二极管Lumileds

    Lumileds的LXA7-PW50是一款LED,正向电压为2.5至3.5 V,正向电流为1000 mA,光通量为200至220 LM,工作温度为-40摄氏度至135摄氏度,存储温度为-40至135摄氏度。有关LXA7-PW50的更多详细信息,请参见下文。

  • 光电查
    VLMYG30H2K1发光二极管Vishay Intertechnology

    波长: 574 nm

    Vishay Intertechnology的VLMYG30H2K1是一款LED,正向电压为1.9至2.2 V,正向电流为2 mA,发光强度CD为3550000 CD,发光强度MCD为3.55-9 MCD,波长为574 nm.有关VLMYG30H2K1的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    SML-Z14M4T发光二极管ROHM Semiconductor

    波长: 572 nm

    来自Rohm Semiconductor的SML-Z14M4T是电流为50mA、正向电压为2.1V、正向电流为50mA、发光强度CD为0.224cd、发光强度MCD为224mcd的LED.有关SML-Z14M4T的更多详细信息,请参阅下文。

  • 光电查
    LR G5AP发光二极管OSRAM

    波长: 620 nm

    欧司朗的LR G5AP是一款LED,正向电流为30-200 mA,波长为620 nm,工作温度为-40至85摄氏度,存储温度为-40至85摄氏度。有关LR G5AP的更多详细信息,请参见下文。

相关文章

  • 用于芯片上的压缩光谱学的高度多色发光阵列

    小型化和多色发光器件阵列为材料科学和应用物理学的感知、成像和计算提供了一种有前途的工具。通过使用传统的发光二极管可以实现一系列的发射颜色,尽管这一过程会受到材料或设备限制。

  • 观察结果为提高有机LED的发光效率打开了大门

    电致发光是用电流产生的光,不依靠热或化学反应。这使得电致发光可靠而高效:它们被用作数字手表的背光灯和阿波罗航天飞机制导计算机的显示屏。像OLED一样,发光电化学电池(LEC)--通过电致发光--已经经历了许多技术进步。密切检查导致发光的过程对于提高发光效率至关重要,然而,直到现在还没有直接检查这些过程的实验方法。

  • 关于氯离子破坏蓝色钙钛矿发光二极管稳定性的研究

    蓝色发光二极管代表了当代照明和显示技术领域的基本元素。与III-V、有机和量子点LED等主流技术一样,开发高效稳定的蓝色钙钛矿发光二极管(PeLEDs)是一项艰巨的挑战。

  • 用于高分辨率制造的低成本显微投影光刻系统

    汉诺威莱布尼茨大学(Leibniz University Hannover )的科学家 Lei Zheng 博士等人开发了一种低成本、用户友好的制造技术,称为基于紫外 LED 的显微镜投影光刻技术(MPP),可在几秒钟内快速制造出高分辨率的光学元件。这种方法可在紫外线照射下将光掩模上的结构图案转移到光阻涂层基底上。