LBD-660 Brightline Pro复杂图案投影激光器 - BOP005259

波长: 532 nm

STANDA公司的STA-01-MOPA SH-2是一种波长为532 nm、功率为1200 MW、输出功率（脉冲）为1200 MW、脉冲能量为10µJ、工作温度为20至35摄氏度的激光器。有关STA-01-MOPA SH-2的更多详细信息，请参见下文。

波长: 852 nm

LaserGlow Technologies的J852001FX是一款波长为852 nm、功率为200 MW、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为-10至50摄氏度的激光器。有关J852001FX的更多详细信息，请参见下文。

波长: 1313 nm

LaserGlow Technologies的RD25005FX是一款波长为1313 nm、功率为500 MW、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为-10至50摄氏度的激光器。有关RD25005FX的更多详细信息，请参见下文。

波长: 1550 nm

来自Calmar Laser的Mendocino 1550 nm（中等功率10 MW-200 MW）是一种波长为1550 nm、功率为10至200 MW、输出功率（脉冲）为10至200 MW、工作温度为10至35摄氏度的激光器。Mendocino 1550 nm（中等功率10 MW-200 MW）的更多详细信息可以在下面看到。

波长: 193 nm

氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。