用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统
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下载规格书 更新时间：2024-04-19 14:40:59
用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统概述
AIX 2800G4-TM，用于基于GaAs/InP的光电子学和P-HEMT/HBT器件。
用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统参数
- 基底尺寸 / Substrate Size: : 203.2 - 152.4 mm
- 工艺类型 / Process Type: : Pulsed Laser Deposition (PLD)
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用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统规格书
用于化合物半导体的AIX 2800G4-TM IC2沉积系统厂家介绍
AIXTRON SE爱思强集团（“爱思强”或“公司”）是半导体行业沉积设备的领先供应商。公司成立于1983年，总部位于德国赫尔佐根拉特（亚琛地区），在亚洲、美国和欧洲设有子公司和代表处。该公司的产品在全球范围内被广泛的客户用于制造基于化合物或有机半导体材料的高性能电子和光电应用元件。这些组件用于各种创新应用、技术和行业。例如，其中包括LED和显示技术、数据传输、传感器技术、能源管理和转换、通信、信号和照明技术以及许多其他复杂的高科技应用。
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