光学涂层

EUV光刻机面临的较大问题是解决RLS权衡：同时提高分辨率、线宽粗糙度（LWR）和光敏性。AL412旋涂辅助层材料已经显示出降低线边缘粗糙度（LER）和图案塌陷、平坦化形貌、保护下面的层免受高能EUV光子损伤、改善粘附性以及改善图案转移蚀刻选择性。

先进的铸造工艺开启了传感器电路工程的新时代，射频通信、嵌入式视觉系统和医疗设备等多个领域的设计人员都在积极探索使用它们的新方法。一种这样的铸造工艺，微米级薄膜技术，正变得对生物医学传感器的设计者特别感兴趣。薄膜电路可以应用于柔性聚酰亚胺基板，使其能够在不影响电路性能或可靠性的情况下显著弯曲和成形。因此，柔性材料和薄膜电路几何结构的结合促使医疗设计人员考虑他们可以在多大程度上尝试增强先进程序和改善患者护理的传感器。

Opus公司开发了一种激光系统，该系统通过光纤在630nm处提供超过1瓦的功率。该系统设计用于特定的癌症治疗药物，从概念阶段开始，经过原型设计、FDA和医疗器械指令批准，并由Opus制造。该项目在10个月内完成。OPUS开发了一种使用多边形扫描仪、平场扫描透镜和光纤荧光信号检测的胶片扫描仪。手持式仪器使用光纤耦合到手持式扫描仪的高功率红外激光器。扫描仪使用2个楔形扫描仪在患者上扫描光栅图案。在微处理器控制下，集成了一个热电冷却窗口，用于皮肤冷却、扫描误差检查和校准。该系统的设计和记录符合FDA和MDD标准，可实现早期认证。

我们专有的光刻工艺使用各种液体和干光刻胶薄膜，在尺寸从非常小到非常大的基板上以极高的分辨率定义图案。我们的添加光刻工艺通过将带正电的金属溅射到带负电的基底上来创建电路线，然后，如果需要，进行电镀以构建具有精确高度和宽度的导电迹线。您可以获得更一致的迹线定义、更薄且因此更灵活的电路（在需要的地方）以及更均匀的电路线（即，顶部和底部宽度相同）。

我们公司与像您这样的元件设计师合作，设想、制作原型并生产创新的薄膜微电路和元件。在过去的30年里，我们为各种要求苛刻的医疗、射频/微波、航空航天、国防、电信、商业印刷和光子学客户提供服务，磨练了我们的微电路设计和制造技能，并提供了广泛的材料选择，我们可以在这些材料上产生您的微电路创意。我们可以以业界领先的电路密度和令人印象深刻的产量提供低至亚微米级别的产品。可实现六层或更多层，包括独立堆叠、对准和互连的导电层。