特征分辨率达一微米的光刻技术服务概述
我们专有的光刻工艺使用各种液体和干光刻胶薄膜,在尺寸从非常小到非常大的基板上以极高的分辨率定义图案。我们的添加光刻工艺通过将带正电的金属溅射到带负电的基底上来创建电路线,然后,如果需要,进行电镀以构建具有精确高度和宽度的导电迹线。您可以获得更一致的迹线定义、更薄且因此更灵活的电路(在需要的地方)以及更均匀的电路线(即,顶部和底部宽度相同)。
特征分辨率达一微米的光刻技术服务参数
- 服务类型 / Type Of Service: : Concept development, Project management, Engineering design
特征分辨率达一微米的光刻技术服务图片集
特征分辨率达一微米的光刻技术服务规格书
特征分辨率达一微米的光刻技术服务厂家介绍
我们是领先的微米级薄膜电路和电成型元件制造商。50多年来,我们一直为美国政府和医疗行业#做的较好的#提供专家指导和生产服务。 我们在马萨诸塞州洛厄尔的一家较先进的铸造厂运营。该工厂是我们完整的薄膜、电铸、光刻和金属化原型和生产中心。 我们专注于主动植入式,并扩大我们的能力,为微创介入治疗产品提供服务。我们将继续扩大我们的创新设计和制造服务,以帮助解决客户在设计、开发和生产的每个阶段面临的较复杂的医疗器械挑战。
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