全部产品分类
非线性和电光产品LiNbO3 晶体

非线性和电光产品LiNbO3

立即咨询获取报价获取报价收藏 收藏 下载规格书 下载规格书
美国
分类:晶体

更新时间:2024-04-19 14:40:59

型号:

非线性和电光产品LiNbO3概述

铌酸锂是一种非中心对称的大带隙铁电氧化物晶体。它在谐波产生、光学参量振荡和电光调制等非线性光学领域有着广泛的应用,具有高消光比和低半波电压等优良的透射特性。

非线性和电光产品LiNbO3参数

  • 水晶类型 / Crystal Type: : LiNbO3 (Lithium Niobate)
  • 相位测量类型 / Phase Mathcing Type: : Not Applicable
  • 安装 / Mounting: : Unmounted
  • 平整度 / Flatness: : <= Lambda/10
  • 表面质量 / Surface Quality (Scratch-Dig): : 10-5
  • AR 涂层 / AR Coating: : One side, Both Sides

非线性和电光产品LiNbO3图片集

非线性和电光产品LiNbO3图1

非线性和电光产品LiNbO3规格书

非线性和电光产品LiNbO3厂家介绍

Deltronic Crystal Industries成立于1972年,为电光和电信行业生长和加工晶体。Deltronic Crystal总部位于新泽西州北部,集办公、生产和仓库设施于一体,提供先进材料生长、开发、制造、加工、抛光和涂层能力,以满足对电光材料和组件日益增长的需求。我们目前在两栋建筑中的容量为18400平方英尺。未来的扩展可能包括添加新的晶体生长炉、处理站、测试和测量设备。

相关内容

相关产品

图片名称分类制造商参数描述
  • 光电查
    BBO Nonlinear Optical Crystal晶体Bluebean Optical Tech Ltd

    BBO(β-硼酸钡,β-BaB2O4)是一种非线性光学晶体,具有许多独特的特性:从409.6nm到3500nm宽相位匹配范围从190nm到3500nm的宽透明区域非线性系数大(约为KDP晶体的6倍)高损伤阈值(10GW/cm²@1064nm,100ps脉冲)高光学均匀性,DN≈10-6/cm约55°C的宽温度带宽(类型1 SHG 1064 nm)对于不同的应用,BBO晶体具有许多优点:Nd:YAG和Nd:YLF激光器的谐波产生(SHG、THG、FHG和5HG)钛宝石和紫翠宝石激光器的谐波产生(SHG,THG,FHG)染料激光器的倍频、三倍频和混频氩离子铜蒸气激光器的倍频光参量放大器(OPA)和光参量振荡器(OPO)用于普克尔盒的电光(E/O)开关晶体

  • 光电查
    LBO Crystal晶体CRISTAL LASER SA

    LBO晶体(三硼酸锂)是高功率激光器的优选非线性光学材料,具有以下主要特点:高体损伤阈值小走离角非临界相位匹配倍频晶体的可能性高透明度的紫外线,使其成为THG 355nm或THG 343nm的较佳选择FHG 266nm的SFM可能性

  • 光电查
    Nonlinear Crystal晶体Wuhan Union Optic, Inc

    联合光学提供不同类型的非线性晶体,包括BBO,KTP,KDP&KD*P,LiNbO3等。我们还可以根据您的要求提供定制NLO晶体和定制涂层。

  • 光电查
    Periodically Poled Lithium Niobate (PPLN) Crystal晶体Crystrong Photonics Technology Co., Ltd

    周期性极化铌酸锂(PPLN)是一种高效的非线性波长转换晶体,具有很宽的光透射范围,覆盖了近红外和中红外光谱区域,可用于倍频(SHG)、信号光(SFG)、光学参量振荡(OPO)以及从可见光到中红外的其他非线性过程。以满足现代光学对激光波长多样性的要求。通过周期结构的设计,可以实现透过率范围内任意波长的输出。PPLN晶体在激光显示、环境探测、中红外光谱、全光波长转换、光学传感等领域有着广泛的应用。在保持较高的非线性系数的同时,通过MgO掺杂可以大幅度提高晶体的光损伤阈值和光折变阈值。与相同组分的PPLN相比,MgO:PPLN晶体可以在更低的温度和可见光范围内稳定工作。

  • 光电查
    Raicol RTP EO CELL晶体Raicol Crystals Ltd

    RTP属于KTP晶体家族。RTP突出的电光特性和高损伤阈值使其能够用于医疗、工业、国防等许多领域的高功率激光应用。

相关文章

  • 旧晶体,新故事,提高深紫外激光性能

    传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。