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掺镱电气石Yb-SS激光器的辐射波长为1058±2nm，平均功率超过1W，这使得终端用户能够在超微米波长上享受到类似Ti：S的功率速率。Del Mar工程师的这一新设计采用了集成泵二极管模块，以提高系统稳定性和交钥匙操作。激光器的坚固主体确保了较大的刚性，同时自启动设计提供了简单的“即插即用”操作。

波长: 635 nm

Picotronic的DD635-1-3（21x21x50）是一款波长为635 nm、功率为1 MW、输出功率（CW）为1 MW、工作温度为-20至50摄氏度、存储温度为-40至80摄氏度的激光器。有关DD635-1-3（21x21x50）的更多详细信息，请参见下文。

波长: 808 nm

来自Picotronic的MH808-350-5（22x65）是一款波长为808 nm、功率为350 MW、输出功率（CW）为350 MW、工作温度为-20至50摄氏度、存储温度为-40至80摄氏度的激光器。MH808-350-5（22x65）的更多详细信息可在下面查看。

波长: 1341 to 1343 nm

来自Precision Micro-Optics的SLPP-13422是波长为1341至1343 nm、功率为1至3 MW、输出功率（CW）为1至3 MW的激光器。有关SLPP-13422的更多详细信息，请参阅下文。

波长: 193 nm

氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。