窗口材料 熔融石英，无涂层，有涂层

蓝岭光学薄膜涂层已用于世界上较先进和较强大的激光系统。涂层可用于蓝岭光学或客户提供的材料。随着对研究开发和持续改进的重视，我们的能力不断发展，以满足客户的薄膜涂层需求。蓝脊光学薄膜镀膜沉积室配备了行业较新和较先进的真空和监测技术。使用光学和晶体监测技术来监测薄膜沉积过程，以确保在整个沉积过程中进行一致和可重复的测量。

索耶技术材料有限责任公司（Sawyer Technical Materials，LLC）较近将我们的水热晶体生长技术应用于各种催化材料的合成。该技术可以独特地应用于材料的生产，使得能够对给定材料内的催化位点的类型、位置、密度和可及性进行目标控制，达到通过其它合成技术很难（如果不是不可能的话）实现的程度。这些产品的进步都是独特的应用，需要与客户密切合作。我们已经成功地使用这种技术生产了各种各样的无机催化材料。我们较近在催化材料的商业开发方面取得了惊人的成功，包括：具有定制的表面积、孔容和孔径分布的高纯度α-氧化铝载体具有可控形貌和优良缺陷结构的纳米氧化锌粉体沸石L、NaP1、β、丝光沸石、ZSM-5等高纯度α-氧化铝粉末，具有多种尺寸、形态（包括纤维）和化学成分（掺杂剂）α-氧化铝/过渡氧化铝复合材料特种氧化铝，即α-氧化铝/勃姆石复合粉末广泛的金属氧化物和金属铝酸盐（ZnAl2O4等）

EOT蓝宝石。

SUPRASIL®3001、3002和300是通过火焰水解制造的高纯度合成熔融石英材料。它们将优异的物理性能与从紫外到近红外的出色光学特性相结合。在制造过程中，中间干燥步骤将SUPRASIL®300X的OH含量降至1ppm以下。1000 ppm–3000 ppm的氯含量是材料固有的，会导致紫外线吸收边缘向较长波长区域发生轻微偏移。SUPRASIL®300X系列材料具有超低总金属杂质（<1 ppm）和低OH（<1 ppm）的组合，导致从可见光到红外光谱区无吸收带。这一特性使该材料系列成为近红外低吸收应用的理想选择。

Tosoh N和NP材料是通过使用Tosoh专有的氢氧火焰熔合工艺熔合高纯度硅粉制造的。由于其高纯度、低铝含量以及极低的气泡和夹杂物水平，氮已成为广泛应用的参考材料：半导体制造、计量、光学、化学加工、紫外线和高温窗口等。特别地，N是用于前沿半导体制造中使用的严格等离子体蚀刻工艺的使能材料。