收藏 
下载规格书 用于FEL应用的VLS减震光栅概述
用于FEL应用的VLS减震光栅参数
- 沟槽密度 / Groove Density: : 5000l/mm
- 基底材料 / Substrate Material: : Metallic
- 尺寸 / Dimension (Length): : 500mm
用于FEL应用的VLS减震光栅图片集
用于FEL应用的VLS减震光栅规格书
用于FEL应用的VLS减震光栅厂家介绍
Inprentus设计、制造和销售用于同步辐射设施、半导体制造和增强现实（AR）波导的衍射光栅。世界500强企业、学术机构和政府实验室将这些Inprentus衍射光栅用于各种科学和商业应用。 Inprentus由伊利诺伊大学Urbana-Champaign物理学教授Peter Abbamonte于2012年6月成立，旨在将创新的双原子显微镜划线技术商业化，这是一种通过金属表面的机械变形进行纳米级光刻的技术。 该技术是表面高精度图案化的通用方法，特别适用于x射线和EUV衍射光学，其中特征必须以0.1度角精度成形，并以纳米精度定位在数十厘米的距离上。
相关内容
相关产品
- 53-084E DIFFRACTION GRATING衍射光学元件Richardson Gratings
53-084E衍射光栅
- ArF 53-141E DIFFRACTION GRATING衍射光学元件Richardson Gratings
ARF 53-141E衍射光栅。
- Flat Field and Imaging Grating 523 00 050衍射光学元件HORIBA Scientific
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
- Flat Field and Imaging Grating 523 00 730衍射光学元件HORIBA Scientific
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上，使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的，并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正，这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时，通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上，并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散，因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
- Monochromator Grating 542 00 160衍射光学元件HORIBA Scientific
使用IV型像差校正单色器光栅，单个凹面光栅将来自入口狭缝的光分散、准直并重新聚焦到出口狭缝上。通过光栅的简单旋转获得波长扫描。这些光栅的凹槽间距是计算机优化的，以产生具有较小值的高质量图像像散和彗差，即使在大数值孔径下。与Czerny-Turner单色仪（配有一面平面光栅、一面准直镜和一面聚焦镜）相比，像差校正单色仪光栅提供了更好的光收集效率和信噪比。
相关文章