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glo-stick 2e 荧光染料胶囊 光学材料

glo-stick 2e 荧光染料胶囊

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分类:光学材料

更新时间:2024-04-19 14:40:59

型号:

概述

这些预填充的一次性胶囊允许使用制冷剂将染料注入加压系统。使用放气阀,通过充气歧管的低压表和维修口连接Glo-Stick®膜盒。有4种尺寸/浓度,适用于不同尺寸的AC&R系统。Glo-Stick®非常适合中小型系统。

参数

  • 应用范围 / Application Spectrum: : Broadband
  • 波长范围 / Wavelength Range: : 1 - 1 nm

规格书

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图片名称分类制造商参数描述
  • 光电查
    Fused Silica光学材料ORIENTIR Inc

    熔融石英也是玻璃态的氧化硅(SiO2),其具有高纯度和交联的三维结构,这使得该材料可以在较高的温度和较低的热膨胀系数下使用。该材料常用作耐火材料、陶瓷原料和玻璃原料等,是电光源、医疗、铸造等行业的主要原料。

  • 光电查
    Suprasil 3001 Material Grades For The Infrared Spectrum光学材料Heraeus

    SUPRASIL®3001、3002和300是通过火焰水解制造的高纯度合成熔融石英材料。它们将优异的物理性能与从紫外到近红外的出色光学特性相结合。在制造过程中,中间干燥步骤将SUPRASIL®300X的OH含量降至1ppm以下。1000 ppm–3000 ppm的氯含量是材料固有的,会导致紫外线吸收边缘向较长波长区域发生轻微偏移。SUPRASIL®300X系列材料具有超低总金属杂质(<1 ppm)和低OH(<1 ppm)的组合,导致从可见光到红外光谱区无吸收带。这一特性使该材料系列成为近红外低吸收应用的理想选择。

  • 光电查
    Tosoh N Fused Silica Glass光学材料Advanced Optics Inc

    Tosoh N和NP材料是通过使用Tosoh专有的氢氧火焰熔合工艺熔合高纯度硅粉制造的。由于其高纯度、低铝含量以及极低的气泡和夹杂物水平,氮已成为广泛应用的参考材料:半导体制造、计量、光学、化学加工、紫外线和高温窗口等。特别地,N是用于前沿半导体制造中使用的严格等离子体蚀刻工艺的使能材料。

  • 光电查
    Window Materials: Crystal Quartz光学材料Montana Instruments Corp

    在大多数系统中,用户可以在几分钟内轻松更换外部真空外壳(暖)和内部辐射屏蔽(冷)窗口。多种光学材料可用于不同的波长和应用。标准选项是具有抗反射(AR)涂层的VIS-NIR(400-1000nm)。光学窗口的大小和数量由外壳配置决定-有关窗口大小和数量,请参阅您的系统规格。Z-切割晶体石英在可见光范围内是透明的,允许用HeNe激光束容易地调整,并且不改变光的偏振状态。

  • 光电查
    Zinc Selenide Soft Material光学材料ICC (Qinhuagndao Intrinsic Crystal Co Ltd)

    硒化锌(ZnSe)是一种相对较软的材料,容易划伤,不建议在恶劣环境中使用,因为其努氏硬度仅为120。搬运时,施加均匀的压力,并戴上乳胶手指套或手套,以防止污染。

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