吸收光谱是一种分析化学工具，可通过测量吸收光的强度与波长的函数关系来确定样品中是否存在特定物质。
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EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统
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获取报价 收藏 下载规格书 更新时间：2024-04-19 14:40:59
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EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统概述
Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具，基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质，并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息，例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳，具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化，可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。
EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统参数
- 成像模式 / Imaging Mode: : Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman
- 激发波长 / Excitation Wavelength: : Custom
- 光谱范围 / Spectral Range (Raman Imaging): : Not Applicable
- 光谱范围 / Spectral Range (PL, EL, DR Imaging): : 900 - 1700 nm
- 光谱分辨率 / Spectral Resolution (PL, EL, DR Imaging): : <2.5 nm
- 空间分辨率 / Spatial Resolution: : Nanometer Range
EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统规格书
EVK HELIOS EQ32 0.9-1.7µm高光谱成像系统厂家介绍
EVK DI Kerschhaggl GmbH是一家在回收、采矿、食品工业、制药和化学工业中开发和制造基于传感器的分类和分析系统的#领先#企业。
自成立以来，EVK一直致力于开发散装材料分析和分类的解决方案-制定新标准的解决方案。
除了能够分析和分类物流中的对象并实时做出准确决策的独特传感器系统外，EVK还设计了数据分析应用程序，用于分类、检查、过程监控和过程控制。
EVK团队的技术支持，从概念构思到调试和售后支持，完成了EVK作为整体解决方案提供商提供的一系列服务。
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图片名称分类制造商参数描述
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