传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。
EKSMA 红外线非线性晶体GaSe - 100
更新时间:2024-04-19 14:40:59
概述
参数
- 水晶类型 / Crystal Type: : GaSe
- 相位测量类型 / Phase Mathcing Type: : Type I, Type II
- 安装 / Mounting: : Unmounted
- 平整度 / Flatness: : Not Available
- 表面质量 / Surface Quality (Scratch-Dig): : Not Available
- AR 涂层 / AR Coating: : Not Coated
规格书
厂家介绍
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