131 LGV 氩离子激光系统

能量吸收器测试系统包含电源和一个额定 值为400VDC、士 150A 的可再生能量吸 收器。该系统由直流电源、一个交流配电 与联锁系统、一个能量吸收器机箱及一个 吸收器负载电阻机箱组成。电源配备有 可通过GPlB 进行控制的远程控制选项， 也可以在本地模式下利用前面板进行控 制。下面的章节中说明了系统特定部件的 操作。

波长: 1.07 µm

IPG Photonics的YLM-150/1500-QCW-MM是一款波长为1.07µm、功率为250 W、输出功率（脉冲）为250 W、输出功率（连续波）为250 W，脉冲能量为15 J的激光器。有关YLM-150/1500-QCW-MM的更多详细信息，请参见下文。

波长: 632.8 nm

Thorlabs Inc的HNL020L-EC是一款波长为632.8 nm、功率为2 MW、输出功率（CW）为2 MW、工作温度为-40至70摄氏度、存储温度为-40至150摄氏度的激光器。有关HNL020L-EC的更多详细信息，请参见下文。

波长: 531.65 nm

LaserGlow Technologies的R5350B3FX是一款波长为531.65 nm、功率为5000 MW、输出功率（CW）为5000 MW、工作温度为10至35摄氏度、存储温度为-10至50摄氏度的激光器。有关R5350B3FX的更多详细信息，请参见下文。

波长: 193 nm

氩氦射线干式光刻技术在芯片制造过程中至关重要。ArF 干法光刻光源（如赛默公司的 XLA 105）可对晶片上的大量中间关键层进行图案化，同时延长模块寿命并加强关键尺寸 (CD) 控制。 随着 CD 的不断缩小，以及对最关键层更精细分辨率的需求，ArF 干光刻工具也开始对非关键层进行图案化，而这些非关键层历来是由 KrF 光源进行图案化的。赛默公司的干式光刻光源具有可靠性和成本效益，是大批量生产的理想选择。