在摩尔定律逼近物理极限的当下,碳基芯片被视为延续半导体产业发展的关键路径。其凭借碳纳米管、石墨烯等材料优异的电学与光电特性,在超高频、低功耗及光电集成领域展现出巨大潜力。然而,从实验室的惊艳成果走向晶圆厂的规模化量产,横亘着材料制备、工艺兼容与集成架构等多重鸿沟。本文将聚焦电子电工与光电技术的交叉点,剖析实现碳基芯片规模化量产必须攻克的核心技术壁垒。 一、
P4510
激光系统 光学测量 光学元件 高精度 光学透镜 AR镀膜
P4510是一款高精度光学透镜,采用BS1/7M材料,具有优异的表面质量和中心度,适用于多种光学应用。
概述
参数
- 基底半径 / Base Radius R1 : 5.920mm
- 基底半径 / Base Radius R2 : 31.26mm
- 不规则性 / Irregularity : 1.0 fringes
- 清晰光圈 / Clear Aperture : 4.0mm
- 表面质量 / Surface Quality : 40/20
- 中心偏差 / Centration : 3 arcmin
- 边缘倒角 / Edge Chamfer : 0.1-0.3mm
- AR涂层反射率 / AR Coating Reflectivity : <0.5% Reflectivity from 400-650nm ('A' coat) or 620-1080nm ('B' coat), per surface
应用
1. 光学成像 2. 激光系统 3. 光学测量
特征
1. 高精度光学设计 2. 优异的表面质量 3. 低反射率AR镀膜
图片集
规格书
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称呼
电话
单位名称
用途