加州理工学院信息科学与技术和应用物理学泰德和金格-詹金斯教授兼应用物理学和材料科学执行官瓦哈拉,与他的研究小组成员和加州大学圣塔芭芭拉分校的约翰-鲍尔斯小组成员一起,在一种名为超低损耗氮化硅(ULL nitride)的重要新材料(一种由硅和氮组成的化合物)中形成短脉冲的方式上取得了突破性进展。这种氮化硅的纯度极高,并以薄膜形式沉积。
XLR 700ix概述
基于 XLR 平台的循环环技术,700ix 在带宽、波长和能量稳定性方面都有所改进,为先进的芯片制造提供了更高的扫描仪吞吐量和工艺稳定性。 XLR 700ix 为芯片制造商提供了更严格的带宽控制(晶圆平均带宽为 300 +/- 5 fm),从根本上消除了带宽作为晶圆性能工艺变化源的问题。Cymer 的技术在逐个脉冲的基础上应用高速闭环控制,从而实现极其稳定的性能。
XLR 700ix参数
- 波长 / Wavelength : 193 nm
- 功率 / Power : 60-90 W
XLR 700ix详述
其他参数
ChamberDual Ring
Bandwidth ControlDynaPulse™
XLR 700ix规格书
XLR 700ix厂家介绍
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