FQCW 266-500

分类：激光器模块和系统

厂家： CryLaS GmbH

产地：德国

型号： FQCW 266-500

更新时间： 2026-03-07T04:13:37.000Z

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低噪声检测单频光谱学二极管泵浦连续波分析母版制作

简介：

FQCW 266-500是一款二极管泵浦连续波固体激光器，具有266nm波长、单频、低噪声、TEM00模式、最大输出功率500mW，并采用风冷设计。

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概述

FQCW 266-500是一款二极管泵浦连续波固体激光器，具有266nm波长、单频、低噪声、TEM00模式、最大输出功率500mW，并采用风冷设计。

参数

标称输出功率 / Nominal Output Power : 500mW
输出功率可调范围 / Output Power Adjustability : 50-550mW
波长 / Wavelength : 266nm
线宽 / Linewidth : <300kHz
相干长度 / Coherence Length : >1000m
光束质量因子M² / Beam Quality Factor M² : <1.3
偏振 / Polarization : vertical, >500:1
光斑直径 / Beam Diameter : 1mm±20%
光束发散角（全角） / Beam Divergence (Full Angle) : <0.45mrad
光束指向稳定性 / Beam Pointing Stability : <3μrad/K
静态对准容差 / Static Alignment Tolerance : Position <±0.25mm, Angle <±2.5mrad
光学噪声(1Hz-100kHz) / Optical Noise (1Hz-100kHz) : <1%rms
光学噪声(100kHz-250MHz) / Optical Noise (100kHz-250MHz) : <0.5%rms
线路电压 / Line Voltage : 90-250VAC
最大功耗 / Power Consumption Mean (Max) : 200W (450W)
通信接口 / Communication Interfaces : USB/RS232/Ethernet
安全设备 / Safety Equipment : key switch
安全设备 / Safety Equipment : interlock
安全设备 / Safety Equipment : shutter
控制单元尺寸 / Dimensions (Control Unit) : 483x409x184mm
控制单元重量 / Weight (Control Unit) : 11kg
尺寸（激光头） / Dimensions (Laser Head) : 739x325x143mm
重量（激光头） / Weight (Laser Head) : 35kg
工作温度 / Operating Temperature : 20°C to 30°C non-condensing
预热时间(冷启动) / Warm-Up Time (Cold Start) : <45min
出口窗口净化接口 / Purge Interface For Exit Window : CDA 1.5LPM, 50PSI, SH<10PPM

应用

1. 光谱学 2. 检测 3. 分析 4. 母版制作

特征

1. 266nm波长 2. 连续波输出 3. 单频 4. 低噪声 5. TEM00模式 6. 最大输出功率500mW 7. 风冷设计

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通过气体注入磁控溅射技术合成的氮化钨(WNx)薄膜的化学与结构表征
WNx薄膜成核机制光学性能结构磁控溅射化学状态研究

采用气体注入磁控溅射（GIMS）技术在硅衬底上合成了氮化钨（WNx）薄膜。通过周期性注入气体剂量来优化GIMS方法中产生的脉冲放电条件，使氮分压维持在10-3至10-1帕量级范围内。与连续溅射技术相比，该方法能增加原子物种的平均自由程并保持其动能。在此条件下我们尝试克服β-W2N相合成中常见的高成核势垒。运用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）研究了氮化钨薄膜的不同成核机制。针对WNx薄膜的化学键态研究，我们采用拉曼光谱测量和X射线光电子能谱（XPS）进行分析。此外通过X射线衍射（XRD）研究分析了氮化钨的结构环境。就先进应用问题而言，基于光谱椭偏仪结果探讨了这些薄膜的光学特性。
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1. 实验设计与方法选择：本研究采用气体注入磁控溅射（GIMS）技术在硅衬底上合成氮化钨（WNx）薄膜。该技术通过周期性气体注入维持脉冲放电条件下10^-3至10^-1 Pa的氮分压，从而增强原子团的平均自由程和动能。该设计旨在无需外部加热或偏压的情况下克服β-W2N相合成的成核障碍。 2. 样品选择与数据来源：使用<100>晶向单晶硅衬底（距钨靶80 mm）。薄膜在氮分压比例变化的氩氮混合气体（50%-100% N2）中合成。 3. 实验设备与材料清单：设备包括配备圆形磁控管的真空腔室、钨靶（Φ=50 mm，t=4 mm，纯度>99.9%）、带脉宽调制（PWM）的中频DPS电源、气体注入脉冲阀、原子力显微镜（布鲁克Innova）、扫描电镜（蔡司Ultra Plus）、X射线衍射仪（帕纳科X'Pert，Cu-Kα辐射）、X射线光电子能谱仪（VG Scienta R3000，Al-Kα辐射）、拉曼光谱仪（JASCO NRS 5100，配Crylas FQCW266-50紫外激光器和氩离子激光激发）、椭圆偏振光谱仪（J.A. Woollam V-VASE）。材料包含高纯氮气（N5.0）、氩气和硅衬底。 4. 实验流程与操作步骤：设定等离子体脉冲寿命500 ms，脉冲间隔2000 ms，采用100 kHz主频和1 kHz调制的PWM。优化气体注入频率为0.5 Hz。合成后表征：AFM轻敲模式（2×2 µm²扫描）测表面形貌，45°截面SEM观察，XRD布拉格-布伦塔诺配置（2θ=20°-60°）分析相组成，Ar+溅射后XPS测定化学键合，紫外（266 nm）和可见光（532 nm）激发的拉曼光谱分析振动特性，0.6-6.5 eV范围内65°/70°/75°入射角的椭圆偏振法测定光学常数（n,k）和反射率。 5. 数据分析方法：AFM粗糙度（Ra）通过NanoScope Analysis软件计算；XRD图谱进行物相鉴定；XPS数据经CasaXPS软件处理（高斯-洛伦兹拟合+Shirley背景校正）；拉曼光谱用Jasco峰处理软件（混合高斯-洛伦兹函数）分析；椭偏数据通过WVase 32®软件数学反演获取光学参数。
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厂家介绍

Crylas，Crystal Laser Systems GmbH是一家总部位于德国柏林的私营公司。Crylas设计和制造基于微芯片技术的二极管泵浦固态激光器，在UV、VIS和IR中用于科学和OEM，应用于生物技术、分析、成像、传感器系统和微加工。Crylas产品结合了长期稳定性、低噪音、小尺寸和出色的工艺。产品组合包括213 nm至1064 nm的被动调Q脉冲ns激光器和266 nm的DUV CW激光器。