FQCW 266-100

分类：激光器模块和系统

厂家： CryLaS GmbH

产地：德国

型号： FQCW 266-100

更新时间： 2024-08-27T09:42:15.000Z

产品价格：

立即查看报价

下载规格书立即咨询

获取报价

概述
规格参数
规格书
AI智能分析 NEW
厂家介绍

概述

Crylas GmbH生产的FQCW 266-100是一款波长为266 nm、功率为100 MW、输出功率（CW）为100 MW、工作温度为20至35摄氏度的激光器。FQCW 266-100的更多详细信息可在下面查看。

参数

技术 / Technology : DPSS Laser, Solid State Laser
功率 / Power : 100 mW
输出功率（CW） / Output Power (CW) : 100 mW
应用 / Application : Raman Spectroscopy, inspection, analytics, DVD mastering
横模 / Transverse Mode : TEM00

规格书

请提供您的邮箱下载规格书

怎么称呼您

接收邮箱

发送申请

AI 智能分析

SCI论文引用分析

该产品已被1篇SCI论文引用

基于平台30万篇光学领域SCI论文分析

通过气体注入磁控溅射技术合成的氮化钨(WNx)薄膜的化学与结构表征
WNx薄膜成核机制光学性能结构磁控溅射化学状态研究

采用气体注入磁控溅射（GIMS）技术在硅衬底上合成了氮化钨（WNx）薄膜。通过周期性注入气体剂量来优化GIMS方法中产生的脉冲放电条件，使氮分压维持在10-3至10-1帕量级范围内。与连续溅射技术相比，该方法能增加原子物种的平均自由程并保持其动能。在此条件下我们尝试克服β-W2N相合成中常见的高成核势垒。运用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）研究了氮化钨薄膜的不同成核机制。针对WNx薄膜的化学键态研究，我们采用拉曼光谱测量和X射线光电子能谱（XPS）进行分析。此外通过X射线衍射（XRD）研究分析了氮化钨的结构环境。就先进应用问题而言，基于光谱椭偏仪结果探讨了这些薄膜的光学特性。
查看全文 >

实验方案推荐

AI分析生成

材料科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择：本研究采用气体注入磁控溅射（GIMS）技术在硅衬底上合成氮化钨（WNx）薄膜。该技术通过周期性气体注入维持脉冲放电条件下10^-3至10^-1 Pa的氮分压，从而增强原子团的平均自由程和动能。该设计旨在无需外部加热或偏压的情况下克服β-W2N相合成的成核障碍。 2. 样品选择与数据来源：使用<100>晶向单晶硅衬底（距钨靶80 mm）。薄膜在氮分压比例变化的氩氮混合气体（50%-100% N2）中合成。 3. 实验设备与材料清单：设备包括配备圆形磁控管的真空腔室、钨靶（Φ=50 mm，t=4 mm，纯度>99.9%）、带脉宽调制（PWM）的中频DPS电源、气体注入脉冲阀、原子力显微镜（布鲁克Innova）、扫描电镜（蔡司Ultra Plus）、X射线衍射仪（帕纳科X'Pert，Cu-Kα辐射）、X射线光电子能谱仪（VG Scienta R3000，Al-Kα辐射）、拉曼光谱仪（JASCO NRS 5100，配Crylas FQCW266-50紫外激光器和氩离子激光激发）、椭圆偏振光谱仪（J.A. Woollam V-VASE）。材料包含高纯氮气（N5.0）、氩气和硅衬底。 4. 实验流程与操作步骤：设定等离子体脉冲寿命500 ms，脉冲间隔2000 ms，采用100 kHz主频和1 kHz调制的PWM。优化气体注入频率为0.5 Hz。合成后表征：AFM轻敲模式（2×2 µm²扫描）测表面形貌，45°截面SEM观察，XRD布拉格-布伦塔诺配置（2θ=20°-60°）分析相组成，Ar+溅射后XPS测定化学键合，紫外（266 nm）和可见光（532 nm）激发的拉曼光谱分析振动特性，0.6-6.5 eV范围内65°/70°/75°入射角的椭圆偏振法测定光学常数（n,k）和反射率。 5. 数据分析方法：AFM粗糙度（Ra）通过NanoScope Analysis软件计算；XRD图谱进行物相鉴定；XPS数据经CasaXPS软件处理（高斯-洛伦兹拟合+Shirley背景校正）；拉曼光谱用Jasco峰处理软件（混合高斯-洛伦兹函数）分析；椭偏数据通过WVase 32®软件数学反演获取光学参数。
获取完整方案

厂家介绍

Crylas，Crystal Laser Systems GmbH是一家总部位于德国柏林的私营公司。Crylas设计和制造基于微芯片技术的二极管泵浦固态激光器，在UV、VIS和IR中用于科学和OEM，应用于生物技术、分析、成像、传感器系统和微加工。Crylas产品结合了长期稳定性、低噪音、小尺寸和出色的工艺。产品组合包括213 nm至1064 nm的被动调Q脉冲ns激光器和266 nm的DUV CW激光器。