在“两新”政策(新质生产力与新型工业化)的宏观指引下,电子电工与光电领域的技术融合正成为驱动产业升级的核心引擎。设备更新不仅是硬件的迭代,更是以技术创新为内核的系统性跃迁。本文将深入剖析在这一政策背景下,两大领域如何通过技术交叉与协同创新,构建起从底层器件到系统应用的完整驱动机制,为产业高质量发展注入强劲动能。 一、光电传感与信号处理电路如何实现更高精度与
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高稳定性 Nd:YAG激光器 恶劣环境 粒子图像测速 双脉冲激光器
EverGreen²是一款双脉冲Nd:YAG激光器,专为粒子图像测速(PIV)设计,具有高稳定性和耐用性,适用于恶劣环境。
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专业选型
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正规认证
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品质保障
严格把控产品质量,呈现理想的光电产品,确保每一件产品都能满足您的专业需求。
参数
- 波长 / Wavelength (Nm) EVG0070 : 532
- 波长 / Wavelength (Nm) EVG0145 : 532
- 波长 / Wavelength (Nm) EVG0200 : 532
- 波长 / Wavelength (Nm) EVG25100 : 532
- 波长 / Wavelength (Nm) EVG0200-266 : 266
- 脉冲重复频率 / Pulse Repetition Rate (Hz) EVG0070 : 15
- 脉冲重复频率 / Pulse Repetition Rate (Hz) EVG0145 : 15
- 脉冲重复频率 / Pulse Repetition Rate (Hz) EVG0200 : 15
- 脉冲重复频率 / Pulse Repetition Rate (Hz) EVG25100 : 25
- 脉冲重复频率 / Pulse Repetition Rate (Hz) EVG0200-266 : 15
- 能量 / Energy (MJ) EVG0070 : 70
- 能量 / Energy (MJ) EVG0145 : 145
- 能量 / Energy (MJ) EVG0200 : 200
- 能量 / Energy (MJ) EVG25100 : 100
- 能量 / Energy (MJ) EVG0200-266 : 30
- 脉冲到脉冲能量稳定性 / Pulse-To-Pulse Energy Stability (%RMS) EVG0070 : ≤2.5
- 脉冲到脉冲能量稳定性 / Pulse-To-Pulse Energy Stability (%RMS) EVG0145 : ≤2.5
- 脉冲到脉冲能量稳定性 / Pulse-To-Pulse Energy Stability (%RMS) EVG0200 : ≤2
- 脉冲到脉冲能量稳定性 / Pulse-To-Pulse Energy Stability (%RMS) EVG25100 : ≤2
- 脉冲到脉冲能量稳定性 / Pulse-To-Pulse Energy Stability (%RMS) EVG0200-266 : ≤3
- 能量漂移 / Energy Drift Over 8 Hours (%) EVG0070 : 10
- 能量漂移 / Energy Drift Over 8 Hours (%) EVG0145 : 10
- 能量漂移 / Energy Drift Over 8 Hours (%) EVG0200 : 10
- 能量漂移 / Energy Drift Over 8 Hours (%) EVG25100 : 10
- 能量漂移 / Energy Drift Over 8 Hours (%) EVG0200-266 : 10
- 脉冲宽度 / Pulse Width (Ns) EVG0070 : ≤12
- 脉冲宽度 / Pulse Width (Ns) EVG0145 : ≤12
- 脉冲宽度 / Pulse Width (Ns) EVG0200 : ≤10
- 脉冲宽度 / Pulse Width (Ns) EVG25100 : ≤10
- 脉冲宽度 / Pulse Width (Ns) EVG0200-266 : ≤10
- 近场标称光束直径 / Near Field Nominal Beam Diameter (Mm) EVG0070 : 5
- 近场标称光束直径 / Near Field Nominal Beam Diameter (Mm) EVG0145 : 6.35
- 近场标称光束直径 / Near Field Nominal Beam Diameter (Mm) EVG0200 : 6.35
- 近场标称光束直径 / Near Field Nominal Beam Diameter (Mm) EVG25100 : 5
- 近场标称光束直径 / Near Field Nominal Beam Diameter (Mm) EVG0200-266 : 6.35
- 光束发散角 / Beam Divergence (Mrad) EVG0070 : <4
- 光束发散角 / Beam Divergence (Mrad) EVG0145 : <4
- 光束发散角 / Beam Divergence (Mrad) EVG0200 : <4
- 光束发散角 / Beam Divergence (Mrad) EVG25100 : <4
- 光束发散角 / Beam Divergence (Mrad) EVG0200-266 : <4
- 光束指向稳定性 / Shot To Shot Pointing Stability (μRad) EVG0070 : <100
- 光束指向稳定性 / Shot To Shot Pointing Stability (μRad) EVG0145 : <100
- 光束指向稳定性 / Shot To Shot Pointing Stability (μRad) EVG0200 : <100
- 光束指向稳定性 / Shot To Shot Pointing Stability (μRad) EVG25100 : <100
- 光束指向稳定性 / Shot To Shot Pointing Stability (μRad) EVG0200-266 : <100
- 远场光束重叠 / Far Field Beam Overlap (μRad) EVG0070 : ±100
- 远场光束重叠 / Far Field Beam Overlap (μRad) EVG0145 : ±100
- 远场光束重叠 / Far Field Beam Overlap (μRad) EVG0200 : ±100
- 远场光束重叠 / Far Field Beam Overlap (μRad) EVG25100 : ±100
- 远场光束重叠 / Far Field Beam Overlap (μRad) EVG0200-266 : ±100
- 近场光束重叠 / Near Field Beam Overlap (μM) EVG0070 : ±100
- 近场光束重叠 / Near Field Beam Overlap (μM) EVG0145 : ±100
- 近场光束重叠 / Near Field Beam Overlap (μM) EVG0200 : ±100
- 近场光束重叠 / Near Field Beam Overlap (μM) EVG25100 : ±100
- 近场光束重叠 / Near Field Beam Overlap (μM) EVG0200-266 : ±100
- 偏振 / Polarization EVG0070 : 线性偏振,垂直
- 偏振 / Polarization EVG0145 : 线性偏振,垂直
- 偏振 / Polarization EVG0200 : 线性偏振,垂直
- 偏振 / Polarization EVG25100 : 线性偏振,垂直
- 偏振 / Polarization EVG0200-266 : 线性偏振,垂直
- 光谱纯度 / Spectral Purity (%) EVG0070 : >98
- 光谱纯度 / Spectral Purity (%) EVG0145 : >98
- 光谱纯度 / Spectral Purity (%) EVG0200 : >98
- 光谱纯度 / Spectral Purity (%) EVG25100 : >98
- 光谱纯度 / Spectral Purity (%) EVG0200-266 : >98
- 近场光束轮廓 / Near Field Beam Profile EVG0070 : 平顶,均匀
- 近场光束轮廓 / Near Field Beam Profile EVG0145 : 平顶,均匀
- 近场光束轮廓 / Near Field Beam Profile EVG0200 : 平顶,均匀
- 近场光束轮廓 / Near Field Beam Profile EVG25100 : 平顶,均匀
- 近场光束轮廓 / Near Field Beam Profile EVG0200-266 : 平顶,均匀
- 手动可变能量衰减器 / Manual Variable Energy Attenuator EVG0070 : 是
- 手动可变能量衰减器 / Manual Variable Energy Attenuator EVG0145 : 是
- 手动可变能量衰减器 / Manual Variable Energy Attenuator EVG0200 : 是
- 手动可变能量衰减器 / Manual Variable Energy Attenuator EVG25100 : 是
- 手动可变能量衰减器 / Manual Variable Energy Attenuator EVG0200-266 : 否
- 工作温度范围 / Operational Temperature Range : 18°C-28°C
- 存储温度范围 / Storage Temperature Range : 5°C-50°C
- 电源要求 / Power Requirements : 100-240VAC,50-60Hz单相
- 闪光灯保修 / Flashlamps Warranty : 1亿次
- 冷却方式 / Cooling : 空气或水冷
- 触发器 / Triggers : 5V标称值,50Ω或高阻负载,用户可选
- 激光头操作 / Laser Head Operation : 激光头组件可在任何方向操作
- 激光头密封 / Laser Head Sealing : IP66密封,不可浸入水中
- 电源密封 / Power Supply Sealing : IP21密封
- 激光振动 / Laser Vibration : 符合MIL-STD-810标准
- 电缆长度 / Cable Length : 3米(9.84英尺),可选10米(32.81英尺)
应用
1. 粒子图像测速(PIV) 2. 激光诱导荧光 3. 燃烧研究
特征
1. 适用于恶劣环境 2. IP66密封 3. 符合MIL-STD-810振动和冲击标准 4. 温度循环测试 5. 配备便携手柄,易于携带 6. 从包装到激光启动不到10分钟 7. 光束重叠保证2年 8. 包含手动能量衰减器 9. 可选266nm波长
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AI 智能分析
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基于平台30万篇光学领域SCI论文分析
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利用差分干涉测量法对激光诱导空化进行空间分辨的压力场测量
压力场测量 激光诱导空化 阴影成像法 差分干涉测量法 气泡动力学
本研究将差分干涉测量与阴影成像技术相结合,用于测定激光诱导单气泡空化过程中的空化压力场及相应气泡动力学特征。提出了一种评估方法,能从干涉图像中高精度重建压力分布。基于合成数据集测算,在8.9°≤𝜑≤63.0°的观测角度范围内,该方法对压力振幅的最小重建精度可达96.2%。通过统计分析数据,本研究还确定了单气泡空化的能量预算Eb及对应压力波能量Es,其适用范围包括低至6巴量级的微弱压力波振幅。
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揭示激光诱导击穿对气流的影响
激光诱导击穿光谱技术 流动诊断 粒子图像测速法
激光诱导击穿光谱(LIBS)是一种光学测量技术,因此属于非接触式但非无创性测量方法。为研究激光诱导击穿对气流的影响,研究人员联合开展了LIBS与粒子图像测速(PIV)测量。在所研究的层流空气中,诱导速度场扰动范围约为0.7厘米,幅度最高达0.9米/秒。进一步研究发现,若要将前次LIBS脉冲对目标气流的影响控制在约10%的相对速度偏差范围内(即确保LIBS与其他测量技术联用或高速LIBS测量的有效性),需要设置至少500微秒的最小时间延迟。针对所研究的气流,要将相对速度偏差降至0%,估算需约20毫秒的时间延迟。在湍流或更高流速情况下,所需最小时间延迟可能更短。
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机械电子工程实验方案
1. 实验设计与方法选择:本研究结合差分干涉测量与阴影成像技术,测量空化诱导的压力场和气泡动力学特性。设计了一套激光诱导空化与光学测量的实验装置。 2. 样本选择与数据来源:研究水中激光诱导单气泡空化现象。通过高速阴影成像和干涉测量获取数据。 3. 实验设备与材料清单:包括用于产生气泡的倍频Nd:YAG激光器、用于阴影成像的脉冲蓝光LED、高速摄像机以及用于干涉测量的沃拉斯顿棱镜。 4. 实验流程与操作步骤:通过同步光源和摄像机记录空化事件。根据干涉图像重建压力场。 5. 数据分析方法:从阴影图像分析气泡动力学特性。利用数值积分和逆阿贝尔变换从干涉图重建压力场。
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精密仪器实验方案
1. 实验设计与方法选择:结合激光诱导击穿光谱(LIBS)和粒子图像测速(PIV)测量技术,研究激光诱导击穿对气流的影响。 2. 样本选择与数据来源:采用直径为4.2厘米的喷嘴产生的层流空气作为测试气流。 3. 实验设备与材料清单:LIBS激光器(1064纳米,50毫焦)、PIV激光器(532纳米,200毫焦)、二氧化钛示踪粒子、sCMOS相机、带通滤光片。 4. 实验步骤与操作流程:同步或以不同延迟发射LIBS激光脉冲和首个PIV激光脉冲,以研究其影响。 5. 数据分析方法:分析平均速度场,并计算速度场的散度以评估受影响气流的范围。
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