在《Light: Advanced Manufacturing》上发表的一篇新论文中,由余绍良博士和杜青阳博士领导的科学家团队开发出了新的封装技术。双光子光刻(TPL)是一种基于激光的技术,可用于创建分辨率极高的三维结构,它最近成为光子封装的一个前景广阔的解决方案,光子封装是将光子元件组装和连接成一个单一系统的过程。
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梅萨PIV 532-120-M
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更新时间:2023-02-23 15:48:19
概述
Amplitude Laser的Mesa PIV 532-120-M是一种波长为532 nm、功率为120 W、脉冲能量为18 MJ、工作温度为15至35摄氏度、存储温度为-20至50摄氏度的激光器。Mesa PIV 532-120-M的更多详细信息可参见下文。
参数
- 类型 / Type : Laser System
- 技术 / Technology : DPSS Laser, Solid State Laser
- 工作模式 / Operation Mode : Pulsed Laser
- 超快激光 / Ultrafast Laser : Nanosecond Lasers
- 波长 / Wavelength : 532 nm
- 可调谐 / Tunable : No
- 激光颜色 / Laser Color : Green
- 功率 / Power : 120 W
- 脉冲能量 / Pulse Energy : 18 mJ
- 偏振方向 / Polarization Orientation : Circular
- 增益介质类型 / Gain Medium Type : Solid State (Crystal / Glass)
- 激光增益介质 / Laser Gain Medium : Nd:YAG
- 应用行业 / Application Industry : Semiconductors & Microelectronics, Display / Projector & LED / Lighting, Industrial (Material Processing), Scientific, Inspection / Analysis / Detection, LIDAR & Sensing, Medical
- 光束质量因子(M2) / Beam Quality Factor (M2) : <25
- 激光头尺寸 / Laser Head Dimension : 812 x 254 x 145 mm (L x W x H)
- 光纤长度 / Fiber length : Umbilical Length: 3.65 m
规格书
厂家介绍
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