奥普斯联合医疗

EUV光刻机面临的较大问题是解决RLS权衡：同时提高分辨率、线宽粗糙度（LWR）和光敏性。AL412旋涂辅助层材料已经显示出降低线边缘粗糙度（LER）和图案塌陷、平坦化形貌、保护下面的层免受高能EUV光子损伤、改善粘附性以及改善图案转移蚀刻选择性。

我们可以开发和提供完整的系统，以合成具有所需产量的特定材料。本节介绍了我们使用的合成方法、我们的技术特点以及可以使用我们提供的设备合成的材料。我们的特点是我们提供高度自动化的设备――我们的系统不需要由合格的操作员监督来生产材料。对于任何系统，我们提供合成指定材料的技术，并在客户现场进行设备调试，培训客户人员操作系统。

描述玻璃-金属密封是容易的部分。生产一个好的需要知识和经验。凭借数十年的经验，我们熟练的工匠执行专业操作，如将面板或金属环密封到各种制造的真空管上。我们使用各种材料，包括几种类型的玻璃、可伐合金和陶瓷，生产用于激光器、红外系统、半导体和光电倍增管的元件。我们的生产人员包括拥有一系列玻璃吹制技能的玻璃吹制工。成形、成型、吹制、弯曲、模制和密封都包括在他们的剧目中。这些工艺可以在几种玻璃类型中进行。用可伐合金、钨和铂进行的玻璃-金属封接也很常见。我们的可伐氢烧成工艺保证了密封件的质量。通过设计，密封件可以是密封的或压缩的。具有不同膨胀系数的玻璃的分级密封也可以在一定的标准下密封在一起。窗户密封件通常由不同的材料制成而不会变形。可根据需要安装阳极、阴极和吸气剂。

哈罗德是一种先进的异质结构模拟器，用于模拟具有近乎任意垂直结构和层成分的法布里-珀罗量子阱激光器。它基于完善的物理模型，这些模型解释了大量的物理过程，从而使人们能够获得一组非常全面的模拟结果，通过这些结果，人们可以测试和改进自己的激光器设计。设备可以在1D（垂直）和2D（垂直-纵向）中进行模拟，在脉冲（等温）或CW（自加热）条件下运行。附加的XY激光器模块允许从激光器横截面的完整物理描述开始执行2D横向-垂直（XY）模拟。横截面可以包括分级的蚀刻层和绝缘层，并且在同一侧具有n和p接触。这非常适合研究脊波导激光器和SOI混合激光器中的横向结构效应。Harold EAM模块包括一个量子限制斯塔克效应（QCSE）模型，允许您对电吸收调制器和电折射调制器进行建模。Harold本身就是一个激光模拟器，它可以将材料模型导出到Photon Design的电路模拟器PicWave，从而允许将其详细物理模型的结果合并到更大、更复杂的设备中，以便在时域中进行快速模拟。

光学涂层是沉积在诸如透镜或反射镜的光学部件上的一个或多个薄材料层，其改变光学部件反射和透射光的方式。一种类型的光学涂层是减反射涂层，其减少来自表面的不需要的反射，并且通常用于眼镜和摄影镜头。另一种类型是高反射涂层，其可用于生产反射大于99.99%的落在其上的光的镜子。更复杂的光学涂层在某些波长范围内表现出高反射，而在另一范围内表现出抗反射，从而允许生产二向色薄膜滤光器。