传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。
概述
Nd:KGW激光器的效率比Nd:YAG激光器高3-5倍。Nd:KGW激光介质是确保在低泵浦能量(0.5–1 J)下产生有效激光的较佳选择之一。Eksma Optics提供的这些晶体具有高光学质量和高价值的激光辐射体积电阻。
参数
- 水晶类型 / Type Of Crystal: : Nd:YLF
- AR 涂层 / AR Coating: : Uncoated
规格书
厂家介绍
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