传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。
概述
参数
- 衰减时间常数 / Decay Time Constant: : 350000ns
- 排放峰值 / Emission Peak: : 1053nm
图片集
规格书
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