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下载规格书 传统上，高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用，形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而，传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性，如干涉光刻。
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概述
MgO：LiNbO3–一种优化LiNbO3性能的非线性晶体纯LiNbO3（LN）是各种光学器件的良好候选者，但由于其低阈值光学损伤而具有主要缺点。MgO掺杂的LN（全同成分）是解决这一问题的可能方案之一。MgO掺杂在LN中起到了重要的作用，并且显示出阈值激光束强度增加了100倍。有趣的一点是，MgO掺杂的LN的每个物理性质（例如，转变温度、活化能、光带、光吸收光谱、OH-振动频率的位移、密度和电活化能，基于我们先前的测量4）在略高于5摩尔%的MgO浓度处具有阈值组成。
参数
- 水晶类型 / Crystal Type: : LiNbO3 (Lithium Niobate)
- 相位测量类型 / Phase Mathcing Type: : Not Applicable
- 安装 / Mounting: : Unmounted
- 宽度 / Width: : 10mm
- 高度 / Height: : 10mm
- 长度 / Length: : 5mm
- 平整度 / Flatness: : <= Lambda/10
- 表面质量 / Surface Quality (Scratch-Dig): : 20-10
- AR 涂层 / AR Coating: : One side
图片集
规格书
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图片名称分类制造商参数描述
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