通过瞬态光致发光成像测量直接观察有机-无机杂化钙钛矿薄膜中的载流子传输

DOI:10.7567/1347-4065/ab027c 期刊:Japanese Journal of Applied Physics 出版年份:2019 更新时间:2026-01-09 18:48:11
摘要: 直接观测电子材料中的载流子运动有助于理解载流子输运现象和器件工作机制。通过瞬态光致发光(PL)成像技术,我们直接观察了有机-无机杂化钙钛矿薄膜中的载流子运动。当对甲基铵铅碘(CH3NH3PbI3)场效应晶体管施加电压时,钙钛矿薄膜的PL强度随电荷注入和抽取过程发生变化。场效应晶体管沟道中PL强度的瞬态变化成功实现了载流子输运的可视化。横向飞行时间(TOF)测量证实该PL瞬态变化与载流子输运相对应。通过分析瞬态PL运动,测得钙钛矿薄膜的空穴迁移率为2.3×10⁻² cm² V⁻¹ s⁻¹。在源极施加负电压时PL强度的增加表明薄膜中主要存在本征空穴。
作者: Lei Lei Yin Win,Dai Taguchi,Takaaki Manaka
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利用瞬态光致发光成像测量直接观察有机-无机杂化钙钛矿薄膜中的载流子传输。

瞬态光致发光(PL)成像技术成功可视化了钙钛矿薄膜中的载流子传输过程,横向飞行时间(TOF)测量证实了PL变化与载流子运动之间的对应关系。该技术揭示了本征空穴的提取现象,表明其在旋涂薄膜中占主导地位,并实现了对空穴迁移率的评估。未来工作应聚焦于优化薄膜形貌以提升器件性能,并进一步研究传输现象。

钙钛矿薄膜呈现出纤维状结构及针孔缺陷,尤其在一锅法制备的薄膜中更为明显,这可能影响载流子传输与器件性能。即使在低温条件下,场效应晶体管特性中的迟滞现象仍未完全消除,这可能是由形貌不规则性及未经处理的半导体-介电界面所致。实测空穴迁移率(2.3×10⁻² cm² V⁻¹ s⁻¹)低于单晶报道值,该结果受表面形貌、缺陷及晶界等因素影响。

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