研究目的
展示外部计量系统如何确定FOWLP/FOPLP封装中的芯片位移误差,并将这些数据转换为步进机校正文件以优化曝光并提高产量。
研究成果
使用外部计量系统测量芯片放置误差并生成步进机校正文件,可优化光刻曝光过程,通过省去曝光设备上的测量时间显著提高步进机产能。
研究不足
该论文未明确提及具体局限性,但潜在约束可能包括外部计量系统的准确性、与不同步进器型号的兼容性,或扩展至大批量生产的能力。
研究目的
展示外部计量系统如何确定FOWLP/FOPLP封装中的芯片位移误差,并将这些数据转换为步进机校正文件以优化曝光并提高产量。
研究成果
使用外部计量系统测量芯片放置误差并生成步进机校正文件,可优化光刻曝光过程,通过省去曝光设备上的测量时间显著提高步进机产能。
研究不足
该论文未明确提及具体局限性,但潜在约束可能包括外部计量系统的准确性、与不同步进器型号的兼容性,或扩展至大批量生产的能力。
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您正在对论文“[IEEE 2018国际晶圆级封装会议(IWLPC) - 美国加州圣何塞(2018.10.23-2018.10.25)] 2018国际晶圆级封装会议(IWLPC) - 克服FOWLP/FOPLP芯片放置误差的先进封装计量与光刻技术”进行纠错
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