[IEEE 2018国际晶圆级封装会议(IWLPC) - 美国加州圣何塞(2018.10.23-2018.10.25)] 2018国际晶圆级封装会议(IWLPC) - 克服FOWLP/FOPLP芯片放置误差的先进封装计量与光刻技术

DOI:10.23919/IWLPC.2018.8573293 出版年份:2018 更新时间:2026-01-09 18:47:16
摘要: 随着半导体技术路线图不断追求更高功能而推高前端制造成本,制造商正寻求后端解决方案来为最终器件提供低成本选择。其中一种方案采用嵌入式晶圆级球栅阵列(eWLB)技术,该技术提供稳健的封装平台,支持多芯片以极小间距、低翘曲率和高良率实现高密度多层互连。该工艺需通过模塑料重构基板,使芯片间距大于原始晶圆以制造额外I/O连接。机器人放置单个芯片时,放置/重构过程会引入显著的芯片定位误差,这些误差必须通过光刻工艺进行补偿,以确保构成连接结构的多层之间精确套准。虽然可在曝光设备上测量这些误差,但每个芯片的测量耗时可能超过曝光本身,这将严重影响产能。 本文展示如何利用外部计量系统测定各芯片相对于标称位置的位移(即X/Y方向和旋转角度),以及如何将这些计量数据转换为步进机校正文件。该文件为步进机提供逐站点校正,使每次曝光都能优化。研究同时证明:消除步进机中的测量时间可显著提升其产能。
作者: Keith Best,Mike Marshall
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研究概述 实验方案 设备清单

展示外部计量系统如何确定FOWLP/FOPLP封装中的芯片位移误差,并将这些数据转换为步进机校正文件以优化曝光并提高产量。

使用外部计量系统测量芯片放置误差并生成步进机校正文件,可优化光刻曝光过程,通过省去曝光设备上的测量时间显著提高步进机产能。

该论文未明确提及具体局限性,但潜在约束可能包括外部计量系统的准确性、与不同步进器型号的兼容性,或扩展至大批量生产的能力。

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