聚甲基丙烯酸缩水甘油酯线阵列表面晶格共振与硅表面硫化镉量子点表面等离子体共振的协同作用

1：实验设计与方法选择：

采用超大规模集成电路（VLSI）工艺（包括光刻和原子转移自由基聚合ATRP）制备一维等离子体PGMA光栅（1DPPGs），通过共价键合将碳量子点（CQDs）固定在光栅上。利用紫外-可见光谱、光致发光（PL）发射光谱和共聚焦激光扫描显微镜（CLSM）进行光学表征，采用洛伦兹-德鲁德模型和光栅方程对吸收率进行理论建模。

2：样品选择与数据来源：

将硅晶圆切割成1 cm×1 cm基底，使用分辨率分别为1 µm、1.5 µm、2 µm和3 µm的PGMA光栅。碳量子点由氯化镉半五水合物、九水合硫化钠和半胱胺合成，溶剂包括水、乙醇、甲苯、四氢呋喃、二氧六环和氯仿用于浸没研究。

3：5 µm、2 µm和3 µm的PGMA光栅。碳量子点由氯化镉半五水合物、九水合硫化钠和半胱胺合成，溶剂包括水、乙醇、甲苯、四氢呋喃、二氧六环和氯仿用于浸没研究。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：硅晶圆（日立公司）、光刻胶、I线光刻系统、原子力显微镜（AFM；Veeco Dimension 5000）、透射电子显微镜（TEM；飞利浦Tecnai G2 F20）、紫外-可见分光光度计（珀金埃尔默Lambda 25）、共聚焦激光扫描显微镜（CLSM；徕卡TCS SP5）、X射线光电子能谱仪（XPS；Scientific Theta Probe）、真空冷冻干燥机（BENCHTOP 2K；VIRTIS）。化学品来自Acros Organics和Aldrich Chemicals。

4：0）、透射电子显微镜（TEM；飞利浦Tecnai G2 F20）、紫外-可见分光光度计（珀金埃尔默Lambda 25）、共聚焦激光扫描显微镜（CLSM；徕卡TCS SP5）、X射线光电子能谱仪（XPS；Scientific Theta Probe）、真空冷冻干燥机（BENCHTOP 2K；VIRTIS）。化学品来自Acros Organics和Aldrich Chemicals。 实验步骤与操作流程：

4. 实验步骤与操作流程：(A) 在硅晶圆上旋涂光刻胶。(B) 通过I线光刻图案化沟槽阵列。(C) 在沟槽底部组装3-氨基丙基三乙氧基硅烷(AS)。(D) 与2-溴-2-甲基丙酰溴(BB)反应形成引发剂。(E) 通过ATRP接枝PGMA刷。(F) 固定碳量子点。表征步骤包括XPS、AFM、TEM、紫外-可见、PL和CLSM。通过溶剂浸没研究调节光栅几何形状。

5：数据分析方法：

XPS分析化学成分，AFM分析形貌，TEM分析粒径，紫外-可见光谱分析吸收光谱，PL分析荧光强度，CLSM分析发光分布。采用洛伦兹-德鲁德模型和光栅方程进行吸收率预测的理论分析。