基于CFD建模的MOCVD硬件配置与工艺条件优化，用于生长高质量(Gd,Y)BCO超导带材

1：实验设计与方法选择：

通过系统性的计算流体动力学（CFD）研究对MOCVD反应器进行建模，重点优化硬件配置（喷淋头与基座间距、喷淋头长度）和工艺参数（气体流速、腔室压力），以改善流场和温度均匀性。

2：样品选择与数据来源：

研究涉及采用卷对卷MOCVD工艺制备的(Gd,Y)BCO超导带材，薄膜厚度和长度明确（284米长带材中1.76米厚）。

3：76米厚）。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：MOCVD反应器、喷淋头、基座、沉积用气体、(Gd,Y)BCO超导带材。

4：实验流程与操作步骤：

利用CFD建模模拟并优化参数；优化后生长薄膜，并对其表面形貌、截面微观结构和临界电流进行表征。

5：数据分析方法：

分析CFD所得流场和温度分布，通过表面和截面视图评估薄膜质量，并测量77K下的临界电流。