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萘二酰亚胺衍生物乙烯基聚合物薄膜的气相沉积聚合

DOI:10.1587/transele.e100.c.141 期刊:IEICE Transactions on Electronics 出版年份:2017 更新时间:2026-01-09 18:43:00
摘要: 通过电子辅助气相沉积法制备了萘二酰亚胺乙烯基衍生物薄膜。为此新合成了N,N'-双(烯丙基)萘二酰亚胺(Allyl-NDI)和N,N'-双(对乙烯基苄基)萘二酰亚胺(Sty-NDI)两种单体材料。采用这些材料进行气相沉积可获得均匀薄膜,而旋涂法则产生不均匀薄膜。红外分析表明Sty-NDI在气相沉积过程中可发生聚合反应。通过电子辅助气相沉积获得了Sty-NDI的不溶薄膜。相比之下,Allyl-NDI的聚合反应活性较低。研究认为Sty-NDI是制备含萘二酰亚胺单元的乙烯基聚合物薄膜的理想材料。
作者: Keisuke TOMIDA,Hiroshi FUJITA,Satoshi USUI,Kuniaki TANAKA,Hiroaki USUI
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研究概述 实验方案 设备清单

探索通过电子辅助气相沉积法沉积萘二酰亚胺聚合物的可能性,以制备均匀稳定的聚合物薄膜,用于有机器件中的电子传输应用。

Sty-NDI是一种通过电子辅助气相沉积法制备具有萘二酰亚胺单元的均匀稳定聚合物薄膜的理想材料,因其能有效聚合形成不溶薄膜。该方法克服了湿法工艺中溶解性差的难题,且相比旋涂法能获得更优的薄膜形貌。

烯丙基-NDI表现出较低的聚合反应活性,所形成的薄膜可溶于四氢呋喃,表明聚合程度不足。通过常规气相沉积法制备的苯乙烯基-NDI其聚合度不足以形成不溶性薄膜。该研究仅聚焦于两种特定单体,未涉及规模化生产或器件集成问题。

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