平面石墨烯边缘的场发射能量分布与三端电流-电压特性

DOI:10.1063/1.5064366 期刊:Journal of Applied Physics 出版年份:2019 更新时间:2026-01-09 18:42:54
摘要: 我们展示了一种集成三端器件的场发射现象,该器件采用悬浮平面石墨烯边缘作为真空电子源。发射电子的能谱证实了场发射机制。对比了化学气相沉积生长的石墨烯与还原氧化石墨烯产生的能谱。当栅极施加负电压时,产生给定漏电流所需的漏源电压升高,证实了场效应晶体管的工作特性。在1皮安至10纳安的测量电流范围内,发射电流随反向电压呈指数增长。电流-电压特性与通过器件几何结构数值计算得出的势垒隧穿理论相符。
作者: Jonathan L. Shaw,John B. Boos,Byoung Don Kong,Jeremy T. Robinson,Glenn G. Jernigan
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研究用于真空电子应用的集成三端器件中平面石墨烯边缘的场发射现象。

在集成三端器件中,平面石墨烯边缘的场发射效应通过能谱分析和栅极调制成功实现并得到验证。该发射机制涉及来自离域π能带和局域化σ边缘态的双重隧穿效应,且化学气相沉积(CVD)石墨烯与还原氧化石墨烯(RGO)间存在差异。电流-电压特性与数值模拟结果一致,但电流增长速率高于预测值。本研究证实了基于石墨烯的真空晶体管及其他集成真空电子器件的应用潜力。

由于采用的设计较为简单,这些器件未能实现漏极电流饱和。观测到电流波动,可能是发射边缘存在氟、氢或水等吸附物所致,通过提高温度进行脱气处理可减少此类现象。发射电流随电压上升的速度比数值模型预测的更快,表明可能存在未被考虑的因素(如累积效应)。由于电压范围有限,无法确定发射方程中常数k的精确值。

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