表面缺陷密度对MAPbI3钙钛矿薄膜光致发光性能的影响

1：实验设计与方法选择：

本研究采用光致发光（PL）光谱和共聚焦PL显微镜来表征不同表面缺陷密度的MAPbI3薄膜的PL产率和寿命变化。通过分阶段改变钙钛矿前驱体化学计量比（y = MAI:PbAc2从2.97到3.05）来控制缺陷密度。

2：97到05）来控制缺陷密度。 样品选择与数据来源：

2. 样品选择与数据来源：使用醋酸铅三水合物配方制备了不同化学计量比（2.97、2.99、3.00、3.01、3.03、3.05）的钙钛矿层，并旋涂在玻璃基板上。样品在干燥空气中制备。

3：05）的钙钛矿层，并旋涂在玻璃基板上。样品在干燥空气中制备。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括扫描电子显微镜（JSM-7610F FEG-SEM，日本电子）、原子力显微镜（布鲁克MultiMode）、带积分球的PL量子产率测量系统（LabSphere）、532 nm连续波激光器（相干公司）、光谱仪（QE65 Pro，海洋光学）、带超连续谱激光器的共聚焦PL显微镜系统（WhiteLase SC400，Fianium）、压电平台（XYZ Nano-LP200，Mad City Labs公司）、物镜（×50，0.65数值孔径，奥林巴斯）、单光子雪崩二极管（Micro Photon Devices）、时间相关单光子计数系统（PicoHarp 300，PicoQuant）。材料包括MAI、PbAc2、DMF、HPA、玻璃基板。

4：65数值孔径，奥林巴斯）、单光子雪崩二极管（Micro Photon Devices）、时间相关单光子计数系统（PicoHarp 300，PicoQuant）。材料包括MAI、PbAcDMF、HPA、玻璃基板。 实验步骤与操作流程：

4. 实验步骤与操作流程：通过将MAI和PbAc2溶解在含HPA的DMF中制备钙钛矿样品，并通过MAI储备溶液调整化学计量比。在532 nm连续波激光照射1分钟后于氮气环境中测量PL量子产率，随后将样品暴露于低白光照明的环境条件下，在不同时间后重新测量PL量子产率。使用405 nm脉冲激光获取共聚焦PL图谱，监测PL强度和寿命随时间的变化。通过SEM和AFM表征微观结构。

5：数据分析方法：

PL衰减数据采用单指数和拉伸指数函数组合进行拟合。计算平均寿命。分析不同区域（亮区、中区、暗区）的PL强度增强情况。