无掩模激光光刻技术实现快速低成本微流控器件制备

1：实验设计与方法选择

本研究采用激光光刻技术（LL）制备微流控器件，使用干膜抗蚀剂（DRF）层压激光切割的丙烯酸（PMMA）薄片。该方法无需掩模，不依赖紫外曝光，仅需标准平板激光切割机即可完成。

2：样本选择与数据来源

以0.2毫米厚PMMA薄片作为微流控通道基底。液滴生成与混合实验采用角鲨烯中的表面活性剂（Span-80）或磷脂（DPhPC）作为油相，TAE缓冲液作为水相。

3：实验设备与材料清单

["VLS660平板激光切割机（美国环球激光系统公司）","Ordyl SY355干膜抗蚀剂（英国MegaElectronics公司）","A3 Mega Drive层压机（英国MegaElectronics公司）","Upchurch® Scientific纳米端口组件（英国IDEX公司）","Fusion 200注射泵（美国Chemyx公司）","奥林巴斯IX81显微镜","Phantom高速摄像机（英国Vision Research公司）","徕卡DM IRB显微镜（德国徕卡显微系统公司）"]

4：实验流程与操作步骤

通过激光切割PMMA薄片构建微流控通道，层压DRF后密封通道并叠加DRF保护层，最后连接接口部件。随后测试器件的液滴生成与混合性能。

5：数据分析方法

使用ImageJ和Python计算液滴尺寸，通过高斯拟合直方图得出的变异系数（CV）评估单分散性。采用小角X射线散射（SAXS）实验验证器件与X射线表征技术的兼容性。