氮离子注入CR-39聚合物的表面特性:RBS研究
作者:
Mahak Chawla,Divya Gupta,Nidhi Shekhawat,Sunil Ojha,Sanjeev Aggarwal
机构:
库鲁克谢特拉大学物理系,阿里亚坎亚玛哈维迪亚拉亚物理系,新德里大学间加速器中心
发布年份:
2019年
更新时间:
2025-03-18 00:28:22
关键词:
离子注入,CR-39,RBS,紫外-可见光谱
摘要:
本文研究了氮离子注入CR-39聚合物的表面特性。样品被100 keV的N+离子束以不同的注入剂量(1 × 10^15, 1 × 10^16 和 2 × 10^16 ions/cm^2)进行注入。通过Rutherford背散射光谱(RBS)和紫外-可见光谱分析了注入引起的样品结构变化。RBS研究表明,原始CR-39样品的结构在N+注入后完全改变。通过RBS光谱估算了碳化、投射范围、保留剂量和注入氮的原子浓度的空间分布。RUMP分析显示,在注入剂量为2 × 10^16 N+/cm^2的样品中,碳浓度从32 at.%增加到43 at.%,氧浓度从19 at.%增加到26 at.%。这种碳浓度的增加表明注入层中发生了碳化。此外,紫外-可见光透射光谱表明,在较高剂量下,几乎完全阻挡了紫外区域,使CR-39成为一种可行的紫外阻挡设备功能材料。
结论:
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实验方法及产品解析:
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描述
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纯硅芯材料: Ge-doped silica 模式场直径@1310 nm: 9.2 µm +/- 0.4 µm 模式场直径@1550 nm: 10.4 µm +/- 0.5 µm
该金属涂层单模光纤设计用于在1310 nm和1550 nm波长范围内提供最佳性能,符合G.652 A/B标准。光纤可配备24克拉金或铝涂层,具备直接焊接能力,适用于严苛环境。
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