光活性SiOx薄膜在铂基底上的电沉积的化学和形貌表征
作者：
Agata Krywko-Cendrowska，Marek Szklarczyk，Laurent Marot，Roland Steiner，Daniel Mathys，Ernst Meyer
机构：
巴塞尔大学物理系，华沙大学化学系，瑞士纳米科学研究所纳米成像实验室
发布年份：
2019年
更新时间：
2025-04-03 11:19:52
关键词：
硅氧化物,SiOx,电沉积,光活性,铂,XPS
摘要：
本研究描述了在铂基底上电沉积光活性SiOx薄膜的过程。通过拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射线光电子能谱（XPS）技术确定了其化学组成，并解释了电沉积反应，包括电解质和水的痕量作为氧的来源。通过扫描电子显微镜（SEM）监测了薄膜的形貌，发现其依赖于沉积电位。通过辉光放电光谱（GD-OES）深度剖面显示，基于SiOx的薄膜厚度约为400 nm。通过XPS确定的最低带隙能量约为2.3 eV，观察到的最高光电流约为60 μA/cm2，出现在由SiO、Si2O和a-Si:H组成的薄膜中。提出了在水溶液中的光电流来源是由于水分解过程。
结论：
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实验方法及产品解析：
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名称
分类
制造商
PDF资料
参数
描述
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DG数字消磁装置
能量和功率传感器
Twinleaf LLC
2: 2
脉冲宽度: 10ns
DG 通过施加振荡磁场使材料达到饱和，然后缓慢地将振荡幅度降至零，从而自动化磁屏蔽消磁过程。
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LAM300原子磁力计
能量和功率传感器
成都量视科技有限公司
灵敏度: <20fT/√Hz
动态范围: ±5nT
测量轴: Z轴、Y轴
LAM300原子磁力计是一种基于原子自旋交换技术的超高灵敏度磁场探测仪器，其通过原子自旋的精确控制，能够测量极为微弱的磁场变化，灵敏度高达fT/√Hz级别，为地磁场强度的几十亿分之一。
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MS-2 磁屏蔽
能量和功率传感器
Twinleaf LLC
屏蔽系数: 10⁶
磁噪声: 10 fT/Hz1/2
内部 3 轴磁场线圈: X/Y coil:
Calibration: 0.576 G/A = 57.6 nT/mA
Inductance: 33 µH
Z coil:
Calibration: 1.50 G/A = 150 nT/mA
Inductance: 140 µH
MS-2 磁屏蔽是精密磁场控制的理想系统。它提供多层高磁导率金属屏蔽以降低环境磁场噪声，并具有内部场线圈系统，可精确控制屏蔽体中心的磁场。
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MS-1LF 磁屏蔽
能量和功率传感器
Twinleaf LLC
内部3轴磁场线圈: X/Y 线圈
校准：0.81 G/A = 81 nT/mA
电感：22 μH
Z 线圈
校准：1.06 G/A = 106 nT/mA
电感：20 μH
内部梯度场线围: dZ/dz：4.02 nT/cm/mA
dZ/dy：3.55 nT/cm/mA
dZ/dx：3.55 nT/cm/mA
dY/dx：4.24 nT/cm/mA
dY/dy：5.18 nT/cm/mA
内部 Z轴二阶梯度线圈: d²Z/dz²：1.06 nT/cm²/mA
MS-1LF 磁屏蔽为超精密磁场测试和测量提供最低的室温磁噪声环境。它提供多层高磁导率金属屏蔽层以降低环境磁噪声，内部铁氧体屏蔽层，并具有内部场线圈系统，以精确控制屏蔽体积中心的磁场。
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MS-1L 磁屏蔽器
能量和功率传感器
Twinleaf LLC
轴向孔: 30 mm dia.
接入孔: 15 mm dia. 8 radial & 2 on each endcap
质量: 8 kg
MS-1L 磁屏蔽器是一种用于精确磁场控制的出色而紧凑的系统。它提供多层高磁导率金属屏蔽以降低环境磁场噪声，并具有内部场线圈系统，可精确控制屏蔽体中心的磁场。
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