使用氧化自由基进行低温硅氧化的研究

作者: Yūki Katamune,Takanobu Negi,Shinichi Tahara,Kazuya Fukushima,Akira Izumi
机构: 九州工业大学青年研究者前沿研究学院,九州工业大学电气与电子工程系
发布年份: 2018年
更新时间: 2025-04-03 11:19:52
关键词: 低温硅氧化,氧化自由基,催化分解,钨丝,H2O/H2气氛
摘要:

本研究探讨了在混合H2O/H2气氛中,通过加热钨丝催化分解H2O前体生成的氧化物种对Si(100)基板表面氧化的影响。研究表明,在不超过350°C的基板温度下,可以形成厚度为1-2 nm的Si氧化层。通过X射线光电子能谱测量,发现当H2O/H2比例不超过0.2%时,钨丝的氧化被抑制,从而几乎没有钨污染的氧化层得以形成。

结论:
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实验方法及产品解析:
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